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公开(公告)号：CN109328243A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201780038184.2
申请日：2017-05-31
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/08 , C23C14/34 , H01L21/316
Abstract: 本发明提供一种可维持规定的成膜率不变，并有效形成应力在规定值以内的氧化铝膜的成膜方法。在本发明中，在真空室(1)内相对配置被成膜物(S)和铝材质的靶(21，22)，向真空气氛中的真空室内导入稀有气体和氧气、给靶施加规定电力对靶进行溅射，使铝原子和氧的反应产物附着并堆积在被成膜物的表面上形成氧化铝膜。此时，向真空室内导入水蒸汽。水蒸汽的分压设置在1×10-3Pa～0.1Pa的范围内。
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