真空蒸气处理装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101512036B

    公开(公告)日:2011-11-02

    申请号:CN200780033699.X

    申请日:2007-09-10

    CPC classification number: C23C14/24 H01F41/0293

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸气处理装置,其适于实施在处理室内形成金属蒸气气氛、该金属蒸气气氛中的金属附着到被处理物的表面,并且使附着到被处理物表面的金属原子扩散到其晶界内的处理。其具有处理炉11,设置在该处理炉内的至少一个处理箱,以及设置在处理炉内围绕该处理箱周围的加热手段2。当在处理箱内配置了被处理物S与金属蒸发材料V的状态下将其收容到处理炉中后,设置将处理炉和处理箱减压到规定压力并保持的真空排气手段,在减压状态下使加热手段动作,将被处理物加热到规定温度的过程中,一边升温一边使金属蒸发材料蒸发,并将该蒸发的金属原子提供到被处理物表面。

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