电子部件及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102822917A

    公开(公告)日:2012-12-12

    申请号:CN201080065948.5

    申请日:2010-10-18

    Inventor: 伊藤阳一郎

    CPC classification number: H01F17/0013 H01F17/0033 H01F41/042

    Abstract: 提供能够抑制因围绕各线圈导体的周围的磁通引起的磁饱和的产生的电子部件及其制造方法。准备具有第1Ni含有率的第1绝缘体层(19)。在第1绝缘体层(19)上形成线圈导体(18)和具有第1Bi含有率并具有高于所述第1Ni含有率的第2Ni含有率的第2绝缘体层(16)。第1绝缘体层、线圈导体以及第2绝缘体层构成第1单位层(17)。层叠第1单位层以及封装用绝缘体层(15)来得到层叠体(12)。之后,烧制层叠体。在烧制层叠体的工序之后,第1绝缘体层中的被线圈导体从z轴方向的两侧夹着的第1部分中的Ni含有率低于第1绝缘体层中的第1部分以外的第2部分中的Ni含有率。

    电子部件及其制造方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102822917B

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201080065948.5

    申请日:2010-10-18

    Inventor: 伊藤阳一郎

    CPC classification number: H01F17/0013 H01F17/0033 H01F41/042

    Abstract: 提供能够抑制因围绕各线圈导体的周围的磁通引起的磁饱和的产生的电子部件及其制造方法。准备具有第1Ni含有率的第1绝缘体层(19)。在第1绝缘体层(19)上形成线圈导体(18)和具有第1Bi含有率并具有高于所述第1Ni含有率的第2Ni含有率的第2绝缘体层(16)。第1绝缘体层、线圈导体以及第2绝缘体层构成第1单位层(17)。层叠第1单位层以及封装用绝缘体层(15)来得到层叠体(12)。之后,烧制层叠体。在烧制层叠体的工序之后,第1绝缘体层中的被线圈导体从z轴方向的两侧夹着的第1部分中的Ni含有率低于第1绝缘体层中的第1部分以外的第2部分中的Ni含有率。

    电子器件的制造方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100558219C

    公开(公告)日:2009-11-04

    申请号:CN200510052868.7

    申请日:2005-02-24

    Abstract: 本发明揭示一种电子器件的制造方法。在对由载体薄膜支持的陶瓷生片照射激光以形成穿通孔时,所述穿通孔穿通所述陶瓷生片以及所述载体膜本体,同时形成形状为近似圆柱形。采用具有由树脂薄膜构成的载体膜本体12、以及在前述载体膜本体的一主面形成的金属薄膜层11而构成的陶瓷生片用载体膜10,在前述载体膜本体12的另一主面形成陶瓷生片20。

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