公开(公告)号：CN101598664A

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200910146557.5

申请日：2009-06-03

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 谷口伸一 ,  高桥志宗 ,  井上隆史 ,  石泽宏明

IPC: G01N21/03 ,  G01N35/02 ,  G01N33/50 ,  G01N33/53

CPC classification number: G01N21/0303 ,  B01L3/508 ,  B01L2300/161 ,  C08J7/123 ,  C08J2365/00 ,  G01N21/01 ,  G01N21/03 ,  G01N2021/115

Abstract: 本发明提供一种抑制伴随着放电处理的树脂的低分子量化的同时，还具有稳定的亲水性的改性表面的分光测光用树脂制池。其解决手段为，在相对的两个电极间配置高分子树脂制池，在大气压附近的压力氛围下，在氮氛围下，对所述相对电极间施加电场，产生放电后，曝露在含氧的气体中进行放电处理的部分，从而对所述树脂制池进行亲水化处理。