公开(公告)号：CN1093246C

公开(公告)日：2002-10-23

申请号：CN96123393.1

申请日：1996-10-04

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 马渕胜美 ,  绿川平八郎 ,  菊池智子 ,  本田卓 ,  相泽道彦 ,  伊藤雅彦

IPC: F25B15/00

CPC classification number: C23C8/12 ,  C09K5/047 ,  C23F11/187 ,  F25B15/02 ,  F25B15/06 ,  F25B47/003 ,  F28F19/06 ,  Y02A30/277 ,  Y02B30/62 ,  Y02P20/124 ,  Y10S165/513

Abstract: 一种用水作制冷剂，用卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机，其特征在于厚度为0.02-5.0μm的氧化膜形成在热交换器和高温再生器中的至少一个的表面上。以及一种用水作制冷剂，卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机的热交换器的生产方法，其特征在于在200-800℃的温度下氧化热交换器和高温再生器中的至少一个的表面，同时调节加热温度和加热时间，以使按照P＝T(5+log t)所得到的参数(P)值为3.5-6.0×103，其中T表示加热温度(°K)，t表示加热时间(分)。

公开(公告)号：CN1161437A

公开(公告)日：1997-10-08

申请号：CN96123393.1

申请日：1996-10-04

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 马渕胜美 ,  绿川平八郎 ,  菊池智子 ,  本田卓 ,  相泽道彦 ,  伊藤雅彦

IPC: F25B15/00

CPC classification number: C23C8/12 ,  C09K5/047 ,  C23F11/187 ,  F25B15/02 ,  F25B15/06 ,  F25B47/003 ,  F28F19/06 ,  Y02A30/277 ,  Y02B30/62 ,  Y02P20/124 ,  Y10S165/513

Abstract: 一种用水作制冷剂，用卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机，其特征在于厚度为0.02-5.0nm的氧化膜形成在热交换器和高温再生器中的至少一个的表面上。以及一种用水作制冷剂，卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机的热交换器的生产方法，其特征在于在200-800℃的温度下氧化热交换器和高温再生器中的至少一个的表面，同时调节加热温度和加热时间，以使按照P＝T(5+logt)所得到的参数(P)值为3.5-6.0×103，其中T表示加热温度(°K)，t表示加热时间(分)。