公开(公告)号：CN85101172B

公开(公告)日：1988-07-27

申请号：CN85101172

申请日：1985-04-01

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长池完训 ,  中岛博泰 ,  大浦正树 ,  竹下幸二

IPC: G11B21/21 ,  C04B35/48

Abstract: 一种磁头滑块组件，包括一个能使滑块相对于旋转磁盘表面浮动的空气承载面，和一个薄膜磁头元件，该组件由包含氧化锆的合成物加工而成。此合成物又能包含数量范围为６～１１克分子％，最好为８～１０克分子％的氧化钇，这种磁头滑块具有结构稳定和工艺性能好的优点。

公开(公告)号：CN85101172A

公开(公告)日：1986-10-08

申请号：CN85101172

申请日：1985-04-01

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长池完训 ,  中岛博泰 ,  大浦正树 ,  竹下幸二

IPC: G11B21/21 ,  C04B35/48

Abstract: 一种磁头滑块组件，包括一个能使滑块相对于旋转磁盘表面浮动的空气承载面，和一个薄膜磁头元件，该组件由包含氧化锆的合成物加工而成。此合成物又能包含数量范围为6～11克分子％，最好为8～10克分子％的氧化钇，这种磁头滑块具有结构稳定和工艺性能好的优点。