公开(公告)号：CN117795621A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280053461.8

申请日：2022-09-01

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 上野雄一郎 ,  田所孝广 ,  前田瑞穗 ,  西田贤人 ,  渡边敬仁 ,  佐佐木贵裕

IPC: G21G1/10 ,  G21G4/08 ,  G21K5/08

Abstract: 本发明提供能够提高放射性核素的制造量、在需要放射性核素时进行余量或缺量小的供给的放射性核素制造系统及放射性核素制造方法。放射性核素制造系统(1)具备生成粒子线(11)的粒子线照射装置(10)、通过粒子线(11)的照射而生成放射性核素的多个靶(40)以及从靶(40)分离精制放射性核素的分离精制装置(30)，多个靶(40)被划分为照射靶组(40a)和精制靶组(40b)，照射靶组(40a)接受通过粒子线(11)的照射而生成放射性核素的照射处理，精制靶组(40b)接受从靶(40)分离精制放射性核素的分离精制处理，照射靶组(40a)与精制靶组(40b)相互并行地被处理。放射性核素制造方法中，将照射靶组(40a)和精制靶组(40b)相互并行地处理而制造放射性核素。