公开(公告)号：CN1374552A

公开(公告)日：2002-10-16

申请号：CN01138158.2

申请日：2001-12-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 小池保夫 ,  田平速 ,  井上隆史 ,  今山宽隆 ,  森本正辉

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/137

CPC classification number: G02F1/133784 ,  G02F2202/22

Abstract: 本发明通过在使与具有配向膜的衬底电位同极性的电位控制部件与研磨辊接触来控制研磨辊表面的电位的状态下研磨处理配向膜表面,实现抑制到配向膜上的异物附着量,并优化显示特性的液晶显示元件和装置。

公开(公告)号：CN1199078C

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：CN01138158.2

申请日：2001-12-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 小池保夫 ,  田平速 ,  井上隆史 ,  今山宽隆 ,  森本正辉

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133784 ,  G02F2202/22

Abstract: 本发明通过在使与具有配向膜的衬底电位同极性的电位控制部件与研磨辊接触来控制研磨辊表面的电位的状态下研磨处理配向膜表面，实现抑制到配向膜上的异物附着量，并优化显示特性的液晶显示元件和装置。