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公开(公告)号:CN1142652A
公开(公告)日:1997-02-12
申请号:CN95116899.1
申请日:1995-09-12
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G11B5/31
Abstract: 一种薄膜磁头,能够在记录和再现时改变其间的磁隙长度,在高矫顽力的介质上进行记录时产生足够的磁场强度,使得能够提高行记录密度,所述薄膜磁头包含一开路的磁路,其具有的磁隙用非磁性薄膜填满,所述磁路通过一包括下磁极和上磁极的磁芯,包含的电导体线圈,其以所述导线在所述上磁极和所述下磁极之间通过的方式绕在所述磁路上,其中至少其中一个磁极包括多层结构,其由高磁导率磁膜、高饱和磁通密度磁膜和低饱和磁通密度磁膜依次构成。