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发明公开
含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物审中-实审

公开(公告)号：CN116235081A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180065391.3

申请日：2021-09-22

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 小柳津研一 , 松岛贯太 , 渡边清瑚 , 高山央 , 西尾博道 , 三浦智弘 , 中村润一 , 川濑健夫 , 藤林辉久 , 木村纯也

IPC: G02B1/04

Abstract: 本发明的目的在于提供一种折射率高且能够适合用于光学用途的高分子材料。本发明涉及一种含硫聚合物，其为具有选自由下述通式(1)所示的结构单元(A)、下述通式(2)所示的结构单元(B)和下述通式(3)所示的结构单元(C)组成的组中的至少一种结构单元的聚合物，其中，上述聚合物具有反应性官能团(上述通式(1)、(2)和(3)中，X1、X2和X3相同或不同，表示具有或不具有取代基的2价芳香族烃基)。

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