薄膜晶体管及包括薄膜晶体管的显示装置

    公开(公告)号:CN107204373B

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN201710154049.6

    申请日:2017-03-15

    Abstract: 根据一个实施例,薄膜晶体管包括:氧化物半导体层(12),其设置在绝缘基板(11)上方,并且包括位于源极区域(12a)与漏极区域(12b)之间的沟道区域(12c);第一绝缘膜(13),其设置在所述氧化物半导体层(12)上的与所述沟道区域(12c)相对应的区域中;栅电极(14),其设置在所述第一绝缘膜(13)上;第一保护膜(15),其作为包含金属的绝缘膜设置在所述氧化物半导体层(12)、所述第一绝缘膜(13)和所述栅电极(14)上;第二保护膜(16),其设置在所述第一保护膜(15)上;以及第三保护膜(17),其作为含有金属的绝缘膜设置在所述第二保护膜(16)上。根据实施例,可以稳定薄膜晶体管的特性,且可以提高可靠性。此外,可以促进制造工艺,从而提高产率。

    薄膜晶体管及包括薄膜晶体管的显示装置

    公开(公告)号:CN107204373A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201710154049.6

    申请日:2017-03-15

    Abstract: 根据一个实施例,薄膜晶体管包括:氧化物半导体层(12),其设置在绝缘基板(11)上方,并且包括位于源极区域(12a)与漏极区域(12b)之间的沟道区域(12c);第一绝缘膜(13),其设置在所述氧化物半导体层(12)上的与所述沟道区域(12c)相对应的区域中;栅电极(14),其设置在所述第一绝缘膜(13)上;第一保护膜(15),其作为包含金属的绝缘膜设置在所述氧化物半导体层(12)、所述第一绝缘膜(13)和所述栅电极(14)上;第二保护膜(16),其设置在所述第一保护膜(15)上;以及第三保护膜(17),其作为含有金属的绝缘膜设置在所述第二保护膜(16)上。根据实施例,可以稳定薄膜晶体管的特性,且可以提高可靠性。此外,可以促进制造工艺,从而提高产率。

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