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公开(公告)号：CN113388805B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202110265013.1
申请日：2021-03-11
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供能够降低蒸镀不良的蒸镀掩模的制造方法和蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模的制造方法，蒸镀掩模具有：掩模框架，其具有由框部或隔档部包围的空隙；第一镀层，其形成于俯视时与空隙重叠、并且俯视时不与框部或隔档部重叠的区域；和第二镀层，其将掩模框架和第一镀层接合，第一镀层形成为从掩模框架向第一方向突出，蒸镀掩模的制造方法的特征在于，包括：在第二镀层与第一镀层的边界，将从第二镀层向第一方向突出的突起推倒的工序。
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公开(公告)号：CN116162890A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211424286.7
申请日：2022-11-15
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明要解决的技术问题是，提供能够使掩模图案的膜厚均匀、并且防止周边部的强度降低的蒸镀掩模及其制造方法。本发明的一个实施方式的蒸镀掩模包括：掩模主体，其包括第1开口区域和与所述第1开口区域相邻的第2开口区域，在所述第1开口区域形成有多个第1开口，在所述第2开口区域形成有多个第2开口；用于支承所述掩模主体的保持框；和用于将所述掩模主体与所述保持框连接的连接部，所述第2开口区域的至少一部分与所述连接部重叠，所述第2开口区域的开口比例与所述第1开口区域的开口比例之差为20％以下。
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公开(公告)号：CN115537720B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202210697086.2
申请日：2022-06-20
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种抑制了在掩模图案产生的变形的蒸镀掩模，蒸镀掩模包括具有多个开口部的掩模部、保持所述掩模部的保持框和连接所述掩模部与所述保持框的连接部，所述连接部包含以具有第1膜厚的方式与所述掩模部接触的第1部分和以具有比所述第1膜厚薄的第2膜厚的方式与所述掩模部接触的第2部分。所述第2部分也可以位于比所述第1部分靠所述掩模部的内侧的位置。
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公开(公告)号：CN117467932A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310888062.X
申请日：2023-07-19
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 木村辽太郎
Abstract: 本发明要解决的技术问题之一是提供一种能够使蒸镀不均匀降低的蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模具有：薄膜状的掩模主体；包围掩模主体的保持框；和位于掩模主体与所述保持框之间的连接部件，掩模主体具有：与所述连接部件重叠的第一区域；被第一区域包围的第二区域；和位于第一区域与第二区域之间的第三区域，连接部件具有将第一直线分隔开的伸出部，所述第一直线是将第一区域与第三区域的第一边界线上的第一点和远离第一点的第二点连结的直线。而且，伸出部能够相对于第一边界线向掩模主体的内侧伸出。
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公开(公告)号：CN116724150A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202180085691.8
申请日：2021-11-16
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 木村辽太郎
IPC: C25D1/10
Abstract: 蒸镀掩模的制造装置包括：支承母材，其具有用于支承被镀敷部件的第一面；在第一面上以包围被镀敷部件的外周的方式设置的第一支承部件和第二支承部件；和与第一面隔开规定的高度地设置的电极部，第一支承部件具有：设置在第一面上的第一壁部；和在第一壁部的上部向第一面的内侧伸出的第一伸出部，第二支承部件具有：设置在第一面上的第二壁部；和在第二壁部的上部向第一面的内侧伸出的第二伸出部，第一壁部具有：在从第一面起的规定的高度范围，高度减少的第一部分；和利用第一部分在第一壁部的内侧面形成的第一台阶部，第二壁部具有通过电极部在与第一面相距规定的高度的位置向第二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116770223A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310216123.8
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社日本显示器
Inventor： 木村辽太郎
Abstract: 本发明提供一种能够提高强度的蒸镀掩模，即，根据一个实施方式，提供一种蒸镀掩模，其具有：掩模主体，其包含设置有开口图案的图案区域和包围所述图案区域的周围的周边区域；支承所述掩模主体的保持框；和连接所述掩模主体与所述保持框的连接部，所述开口图案包含具有在第1方向延伸的长边和在与所述第1方向正交的第2方向延伸的短边的矩形形状的多个开口，所述多个开口包含多个第1开口和与第1开口相邻且在所述第2方向上设置于该第1开口与周边区域之间的多个第2开口，在所述第1方向上彼此相邻的第2开口之间的第2距离大于在所述第1方向上彼此相邻的第1开口之间的第1距离。
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公开(公告)号：CN113493893B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202110301035.9
申请日：2021-03-22
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 对于蒸镀掩模单元的制作，要求除了高精度地形成高精细的图案以外，还不产生缺陷图案的技术。本发明的蒸镀掩模的制作方法包括：在第1支承基板的第1面的内侧区域，以第1膜厚形成第1抗蚀剂掩模的步骤，在形成有第1抗蚀剂掩模的第1面上，以第1膜厚以下的第2膜厚形成剥离层的步骤，除去第1抗蚀剂掩模的步骤，在剥离层上配置覆盖剥离层且端部扩展至剥离层的外侧的感光性抗蚀剂膜的步骤，与感光性抗蚀剂膜紧贴地设置第2支承基板的步骤，将第1支承基板从剥离层分离，使感光性抗蚀剂膜和剥离层留存在第2支承基板上的步骤，将超出剥离层的感光性抗蚀剂膜除去的步骤，将感光性抗蚀剂膜的端面曝光的步骤，在剥离层上形成蒸镀掩模图案的步骤。
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公开(公告)号：CN113493893A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110301035.9
申请日：2021-03-22
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 对于蒸镀掩模单元的制作，要求除了高精度地形成高精细的图案以外，还不产生缺陷图案的技术。本发明的蒸镀掩模的制作方法包括：在第1支承基板的第1面的内侧区域，以第1膜厚形成第1抗蚀剂掩模的步骤，在形成有第1抗蚀剂掩模的第1面上，以第1膜厚以下的第2膜厚形成剥离层的步骤，除去第1抗蚀剂掩模的步骤，在剥离层上配置覆盖剥离层且端部扩展至剥离层的外侧的感光性抗蚀剂膜的步骤，与感光性抗蚀剂膜紧贴地设置第2支承基板的步骤，将第1支承基板从剥离层分离，使感光性抗蚀剂膜和剥离层留存在第2支承基板上的步骤，将超出剥离层的感光性抗蚀剂膜除去的步骤，将感光性抗蚀剂膜的端面曝光的步骤，在剥离层上形成蒸镀掩模图案的步骤。
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公开(公告)号：CN113388805A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110265013.1
申请日：2021-03-11
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供能够降低蒸镀不良的蒸镀掩模的制造方法和蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模的制造方法，蒸镀掩模具有：掩模框架，其具有由框部或隔档部包围的空隙；第一镀层，其形成于俯视时与空隙重叠、并且俯视时不与框部或隔档部重叠的区域；和第二镀层，其将掩模框架和第一镀层接合，第一镀层形成为从掩模框架向第一方向突出，蒸镀掩模的制造方法的特征在于，包括：在第二镀层与第一镀层的边界，将从第二镀层向第一方向突出的突起推倒的工序。
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公开(公告)号：CN113355634B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202110196113.3
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种蒸镀掩模单元的制作方法。该方法包含：形成具有多个开口的蒸镀掩模的步骤；将具有光固化性树脂膜和保护膜的抗蚀剂膜，以由蒸镀掩模和保护膜夹着光固化性树脂膜，且光固化性树脂膜覆盖多个开口的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；隔着保护膜对光固化性树脂膜实施第一曝光的步骤；去除保护膜的步骤；在去除了保护膜之后，对光固化性树脂膜实施第二曝光的步骤；通过使光固化性树脂膜显影来形成多个抗蚀剂掩模的步骤；将具有至少一个窗的支承架以与蒸镀掩模接触的方式配置在蒸镀掩模上的步骤；和使用镀敷法形成用于将支承架固定于蒸镀掩模的连接部的步骤。根据本发明，能够以高成品率或低成本地制造蒸镀掩模单元。
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