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发明公开
光学系统、光学设备、拍摄装置以及光学系统和拍摄装置的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN113302534A

公开(公告)日：2021-08-24

申请号：CN202080009052.9

申请日：2020-01-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 岩根透 , 徳永京也 , 伊藤智希 , 诹访恭一

IPC: G02B17/08 , G02B13/18 , G02B17/00 , G03B15/00 , G03B19/07 , H04N5/225

Abstract: 本发明提供一种高分辨率、具有高光学性能且小型化的光学系统、具有该光学系统的光学设备、拍摄装置以及光学系统和拍摄装置的制造方法。搭载于相机(60)等光学设备的相机模块(10)的光学系统(UL)具备校正部件、第1反射部(12a)及第2反射部(13a)，而形成物体的像，所述校正部件具有校正面(11a)，所述第1反射面(12a)对通过了校正面(11a)的光进行反射，所述第2反射面(13a)对由第1反射面(12a)反射了的光进行反射，其中，所述光学系统(UL)满足预定的条件。

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