公开(公告)号：CN101080378A

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：CN200580043113.9

申请日：2005-10-17

Applicant: 株式会社吴羽

Inventor： 小川知幸 ,  星智广 ,  栉田勉 ,  大田原健太郎

IPC: C07C51/43 ,  C07C59/06 ,  C07D319/12 ,  C08G63/78 ,  C08L101/16

CPC classification number: C08G63/78 ,  C07C51/43 ,  C07D319/12 ,  C08G63/06 ,  C07C59/06

Abstract: 公开了一种纯化羟基羧酸的方法，其包括：将羟基羧酸水溶液进行结晶纯化的结晶步骤、从母液中分离羟基羧酸晶体的分离步骤、和用洗液洗涤所述羟基羧酸晶体以进一步纯化的洗涤步骤，其中所述洗液为羟基羧酸水溶液。通过上述方法得到的纯化或精制的羟基羧酸适合作为制备聚羟基羧酸的原料。上述方法适合地包括在制备环酯的方法和制备聚羟基羧酸的方法中。

公开(公告)号：CN102295550A

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN201110135681.9

申请日：2005-10-17

Applicant: 株式会社吴羽

Inventor： 小川知幸 ,  星智广 ,  栉田勉 ,  大田原健太郎

IPC: C07C59/06 ,  C07C51/43 ,  C07D319/12 ,  C08G63/78 ,  C08G63/06

CPC classification number: C08G63/78 ,  C07C51/43 ,  C07D319/12 ,  C08G63/06 ,  C07C59/06

Abstract: 本发明涉及一种进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法，其包括：一种纯化羟基羧酸的连续方法，其包括：将羟基羧酸水溶液进行结晶纯化的结晶步骤、从滤液中分离羟基羧酸晶体的分离步骤、和用洗液洗涤所述羟基羧酸晶体以进一步纯化的洗涤步骤，从而获得被纯化的羟基羧酸，其中所述洗液为起始羟基羧酸水溶液，将与所述羟基羧酸晶体分离的一部分滤液排出系统，和将洗涤所述羟基羧酸晶体之后的洗涤滤液作为待进行所述结晶步骤的羟基羧酸水溶液再循环；将该羟基羧酸进行缩聚形成羟基羧酸的低聚物；以及使该低聚物解聚以形成作为所述羟基羧酸的二聚体的环酯。本发明的方法适合地用于进一步加工被纯化的羟基羧酸。

公开(公告)号：CN101080378B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200580043113.9

申请日：2005-10-17

Applicant: 株式会社吴羽

Inventor： 小川知幸 ,  星智广 ,  栉田勉 ,  大田原健太郎

IPC: C07C51/43 ,  C07C59/06 ,  C07D319/12 ,  C08G63/78 ,  C08L101/16

CPC classification number: C08G63/78 ,  C07C51/43 ,  C07D319/12 ,  C08G63/06 ,  C07C59/06

Abstract: 公开了一种纯化羟基羧酸的方法，其包括：将羟基羧酸水溶液进行结晶纯化的结晶步骤、从母液中分离羟基羧酸晶体的分离步骤、和用洗液洗涤所述羟基羧酸晶体以进一步纯化的洗涤步骤，其中所述洗液为羟基羧酸水溶液。通过上述方法得到的纯化或精制的羟基羧酸适合作为制备聚羟基羧酸的原料。上述方法适合地包括在制备环酯的方法和制备聚羟基羧酸的方法中。