聚乙烯醇系薄膜
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101778888A

    公开(公告)日:2010-07-14

    申请号:CN200880102610.5

    申请日:2008-08-01

    Inventor: 林哲史

    CPC classification number: C08J5/18 C08J2329/04 G02B5/3033

    Abstract: 提供能有效制造起因于染色斑或延伸斑所产生的光学斑少、高性能的偏光薄膜的宽幅的聚乙烯醇系薄膜。上述聚乙烯醇系薄膜是由含有聚乙烯醇系聚合物及增塑剂的制膜原液所制膜而成的聚乙烯醇系薄膜,在该薄膜的TD方向中,相对于薄膜所含的增塑剂含量的平均值的最大含量差(Ry)为2%以下,且增塑剂含量的TD方向中变动量凹凸形的平均间隔(Sm)为5cm以上。

    聚乙烯醇系薄膜
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101778888B

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN200880102610.5

    申请日:2008-08-01

    Inventor: 林哲史

    CPC classification number: C08J5/18 C08J2329/04 G02B5/3033

    Abstract: 提供能有效制造起因于染色斑或延伸斑所产生的光学斑少、高性能的偏光薄膜的宽幅的聚乙烯醇系薄膜。上述聚乙烯醇系薄膜是由含有聚乙烯醇系聚合物及增塑剂的制膜原液所制膜而成的聚乙烯醇系薄膜,在该薄膜的TD方向中,相对于薄膜所含的增塑剂含量的平均值的最大含量差(Ry)为2%以下,且增塑剂含量的TD方向中变动量凹凸形的平均间隔(Sm)为5cm以上。

    聚乙烯醇系薄膜
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102816339B

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201210291704.X

    申请日:2008-08-01

    Inventor: 林哲史

    CPC classification number: C08J5/18 C08J2329/04 G02B5/3033

    Abstract: 提供能有效制造起因于染色斑或延伸斑所产生的光学斑少、高性能的偏光薄膜的宽幅的聚乙烯醇系薄膜。上述聚乙烯醇系薄膜是由含有聚乙烯醇系聚合物及增塑剂的制膜原液所制膜而成的聚乙烯醇系薄膜,在该薄膜的TD方向中,相对于薄膜所含的增塑剂含量的平均值的最大含量差(Ry)为2%以下,且增塑剂含量的TD方向中变动量凹凸形的平均间隔(Sm)为5cm以上。

    聚乙烯醇系薄膜
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102816339A

    公开(公告)日:2012-12-12

    申请号:CN201210291704.X

    申请日:2008-08-01

    Inventor: 林哲史

    CPC classification number: C08J5/18 C08J2329/04 G02B5/3033

    Abstract: 提供能有效制造起因于染色斑或延伸斑所产生的光学斑少、高性能的偏光薄膜的宽幅的聚乙烯醇系薄膜。上述聚乙烯醇系薄膜是由含有聚乙烯醇系聚合物及增塑剂的制膜原液所制膜而成的聚乙烯醇系薄膜,在该薄膜的TD方向中,相对于薄膜所含的增塑剂含量的平均值的最大含量差(Ry)为2%以下,且增塑剂含量的TD方向中变动量凹凸形的平均间隔(Sm)为5cm以上。

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