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公开(公告)号：CN1287388C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200410032867.1
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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公开(公告)号：CN1267933C
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200310119684.9
申请日：2003-11-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G21F9/28 , G21Y2002/201 , G21Y2002/202 , G21Y2002/601 , G21Y2004/40 , Y10S422/903
Abstract: 本发明披露了一种化学净化放射性材料的方法。所述方法包括：使放射性物质的表面与包含一元羧酸和二元羧酸作为溶剂的还原净化液接触的还原-溶解步骤；和使放射性物质的表面和包含氧化剂的氧化净化液接触的氧化-溶解步骤。该方法可以包括重复的步骤对，每一对步骤包括还原-溶解步骤和氧化-溶解步骤。一元羧酸包括甲酸，而二元羧酸包括草酸。氧化剂可以是臭氧、高锰酸或高锰酸盐。
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公开(公告)号：CN102262909B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201110193995.4
申请日：2007-02-06
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的一种化学除污装置，通过使用臭氧水化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜来进行所述除污。该化学除污装置包括用于产生臭氧气体的臭氧发生单元，用于将产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备，以及位于臭氧供给单元内的烧结金属元件37，而且臭氧气体由臭氧供给设备供给至该金属元件。使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内部的臭氧气体流出所述元件而进入水中，以便生成臭氧水。本发明还提供了一种化学除污方法。
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公开(公告)号：CN102262909A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN201110193995.4
申请日：2007-02-06
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的一种化学除污装置，通过使用臭氧水化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜来进行所述除污。该化学除污装置包括用于产生臭氧气体的臭氧发生单元，用于将产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备，以及位于臭氧供给单元内的烧结金属元件37，而且臭氧气体由臭氧供给设备供给至该金属元件。使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内部的臭氧气体流出所述元件而进入水中，以便生成臭氧水。本发明还提供了一种化学除污方法。
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公开(公告)号：CN101385093A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005072.3
申请日：2007-02-06
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: Y02E30/40
Abstract: 本发明的一种化学除污装置，通过使用臭氧水化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜来进行所述除污。该化学除污装置包括用于产生臭氧气体的臭氧发生单元，用于将产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备，以及位于臭氧供给单元内的烧结金属元件37，而且臭氧气体由臭氧供给设备供给至该金属元件。使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内部的臭氧气体流出所述元件而进入水中，以便生成臭氧水。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1512515A
公开(公告)日：2004-07-14
申请号：CN200310119684.9
申请日：2003-11-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G21F9/28 , G21Y2002/201 , G21Y2002/202 , G21Y2002/601 , G21Y2004/40 , Y10S422/903
Abstract: 本发明披露了一种化学净化放射性材料的方法。所述方法包括：使放射性物质的表面与包含一元羧酸和二元羧酸作为溶剂的还原净化液接触的还原－溶解步骤；和使放射性物质的表面和包含氧化剂的氧化净化液接触的氧化－溶解步骤。该方法可以包括重复的步骤对，每一对步骤包括还原－溶解步骤和氧化－溶解步骤。一元羧酸包括甲酸，而二元羧酸包括草酸。氧化剂可以是臭氧、高锰酸或高锰酸盐。
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公开(公告)号：CN101385093B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200780005072.3
申请日：2007-02-06
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: Y02E30/40
Abstract: 本发明的一种化学除污装置，通过使用臭氧水化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜来进行所述除污。该化学除污装置包括用于产生臭氧气体的臭氧发生单元，用于将产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备，以及位于臭氧供给单元内的烧结金属元件37，而且臭氧气体由臭氧供给设备供给至该金属元件。使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内部的臭氧气体流出所述元件而进入水中，以便生成臭氧水。
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公开(公告)号：CN1540675A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN200410032867.1
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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