公开(公告)号：CN106659811B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201580043868.2

申请日：2015-09-11

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 千草尚 ,  森田修介 ,  高桥健 ,  大川猛 ,  松田秀三 ,  柳泽正

IPC: A61L2/20 ,  A23L3/3481 ,  A61L9/01 ,  A61L9/04 ,  A61L9/14 ,  G01N21/78

Abstract: 本发明涉及一种空间杀菌装置，其包含向被处理空间供给气状和/或雾状的次氯酸溶液的次氯酸溶液供给部，所述空间杀菌装置使被处理空间中的次氯酸浓度为400ppb～500ppm。本发明获得了能够规定不受次氯酸溶液的不良影响且可对被处理空间内充分地进行杀菌、除臭的次氯酸浓度并维持该浓度的空间杀菌装置。

公开(公告)号：CN106659811A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580043868.2

申请日：2015-09-11

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 千草尚 ,  森田修介 ,  高桥健 ,  大川猛 ,  松田秀三 ,  柳泽正

IPC: A61L2/20 ,  A23L3/3481 ,  A61L9/01 ,  A61L9/04 ,  A61L9/14 ,  G01N21/78

Abstract: 本发明涉及一种空间杀菌装置，其包含向被处理空间供给气状和/或雾状的次氯酸溶液的次氯酸溶液供给部，所述空间杀菌装置使被处理空间中的次氯酸浓度为400ppb～500ppm。本发明获得了能够规定不受次氯酸溶液的不良影响且可对被处理空间内充分地进行杀菌、除臭的次氯酸浓度并维持该浓度的空间杀菌装置。