公开(公告)号：CN102137957A

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200980134008.4

申请日：2009-06-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 藤田玲子 ,  水口浩司 ,  中村等 ,  布施行基 ,  河本充 ,  伊藤胜

IPC: C25C3/26 ,  C22B3/26 ,  C22B34/14

CPC classification number: C25C3/26 ,  C22B34/1222 ,  C22B34/129 ,  C22B34/14 ,  Y02P10/23

Abstract: 本发明的目的是提供金属锆的制备方法，所述方法的步骤较少，所生成的二次废物量较小，其中金属锆从包含铪的锆化合物中得到。本发明制备金属锆的方法包括：分离步骤：将氯氧化铪从含有氯氧化锆和氯氧化铪的第一物质中分离，以得到具有更高含量氯氧化锆的第二物质；煅烧步骤：将第二物质煅烧，以得到包含氯氧化锆和氧化锆中至少任一种的第三物质；和直接还原步骤：将第三物质保持在熔融盐中，并使第三物质与阴极接触，且在阴极和阳极间施加电压，以直接还原第三物质而得到金属锆。