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发明公开
光学膜的制造方法无效

公开(公告)号：CN106216197A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201610365830.3

申请日：2016-05-27

申请人： 柯尼卡美能达株式会社

发明人： 工藤智广 , 长谷川晋 , 千叶隆人

IPC分类号： B05D3/02 , B05D5/06 , B05D7/00

CPC分类号： B05D5/063 , B05D3/0254 , B05D7/5423

摘要： 本发明提供一种可抑制干燥工序中的点状故障(凹陷)的发生的光学膜的制造方法。该方法具有涂装工序和干燥工序，在上述涂装工序中，在光学膜基材上同时重层涂布至少第一涂布液和第二涂布液而形成涂膜；在上述干燥工序中，将涂膜进行干燥；第一涂布液的粘度大于第二涂布液的粘度。而且，在干燥工序中，将涂膜表面的湿球温度设定为10℃以下直到涂膜中的由第一涂布液构成的部位的固体成分浓度达到20质量％，从而，涂膜中的由第一涂布液构成的部位的粘度达到2×104mPa·s后以不低于2×104mPa·s的方式被维持。