图像曝光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1536433A

    公开(公告)日:2004-10-13

    申请号:CN200410033518.1

    申请日:2004-04-06

    CPC classification number: H04N1/502 B41J2/451

    Abstract: 本发明涉及一种图像曝光装置,尤其涉及一种使用多个光源阵列的图像曝光装置。在一个图像曝光装置中,包括R、G和B光源,光混和装置,用于混和从R、G和B光源发射的每个发射光束,从而形成一个直线发射光束,以及自动聚焦透镜阵列,用于把所述发射光束聚焦在一种特定的感光材料上,在自动聚焦透镜阵列中空间频率是12行/毫米的点附近的MFT的偏差被设置为0.2/2毫米或更小。此外,从R光源和B光源的发射光束的发射面到感光材料的光路长度被分别设置为和每个物像距离TCR、TCB不同。

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