公开(公告)号：CN111801855B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN201880090657.8

申请日：2018-10-22

Applicant: 极光先进雷射株式会社(JP)

Inventor： 对马弘朗 ,  田中智史 ,  藤卷洋介 ,  浅山武志 ,  若林理

IPC: H01S3/225

Abstract: 激光气体再生装置对从至少一个ArF准分子激光装置排出的排出气体进行再生，并将再生气体供给到至少一个ArF准分子激光装置，该至少一个ArF准分子激光装置与第1激光气体供给源和第2激光气体供给源连接，第1激光气体供给源供给包含氩气、氖气和第1浓度的氙气在内的第1激光气体，第2激光气体供给源供给包含氩气、氖气和氟气的第2激光气体，其中，激光气体再生装置具有：数据取得部，其取得被供给到至少一个ArF准分子激光装置的第2激光气体的供给量的数据；氙添加部，其将包含氩气、氖气和比第1浓度高的第2浓度的氙气在内的第3激光气体添加到再生气体中；以及控制部，其根据供给量对基于氙添加部的第3激光气体的添加量进行控制。

公开(公告)号：CN108604540B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN201680081317.X

申请日：2016-03-24

Applicant: 国立大学法人九州大学(JP) ,  极光先进雷射株式会社(JP)

Inventor： 池上浩 ,  诹访辉 ,  若林理

IPC: H01L21/228

Abstract: 激光掺杂装置具有：溶液供给系统，其对掺杂区域供给包含掺杂剂的溶液；脉冲激光系统，其输出透过溶液且包含多个脉冲的脉冲激光；第一控制部，其控制对掺杂区域照射的脉冲激光的脉冲数和掺杂区域中的脉冲激光的注量；以及第二控制部，其控制溶液的流速，以使得每次照射脉冲时在溶液内所产生的气泡从掺杂区域移开。