硫化橡胶成形用脱模剂
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111278619A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN201880070854.3

    申请日:2018-10-22

    Abstract: 本发明提供脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有:胺化合物的环氧烷加成物(A),对分子内具有4~8个活性氢原子的胺化合物加成环氧烷而成;以及表面活性剂(B)。

    硫化橡胶成形用脱模剂
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109153154A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780029731.0

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 提供一种脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有胺化合物的环氧烷加成物(A),所述胺化合物在分子内有4~8个活性氢原子,所述胺化合物的环氧烷加成物(A)的数均分子量为5000~30000,并且,含有50~95质量%的氧亚乙基。

    硫化橡胶成形用脱模剂
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109153153A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780029667.6

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 提供一种脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有含活性氢基团的化合物的环氧烷加成物(A),所述含活性氢基团的化合物在分子内有4个活性氢原子,所述含活性氢基团的化合物的环氧烷加成物(A)的数均分子量为5000~30000,并且,含有50~95质量%的氧亚乙基。

    用于形成纹理的蚀刻液
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104094411A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201380008345.5

    申请日:2013-02-06

    CPC classification number: C09K13/02 C09K13/04 H01L31/02363 Y02E10/50

    Abstract: 在本发明中,通过使用蚀刻液能够在晶片表面上均匀地形成稳定的良好纹理,该蚀刻液包含一水溶液,该水溶液含有(A)碱性组分和(B)膦酸衍生物或其盐。本发明提供一种用于在硅晶片上形成纹理的蚀刻液,该蚀刻液适用于利用松散磨粒系统的晶片切割的晶片和利用固定磨粒系统切割的晶片,并且在60℃至95℃的加工温度范围内添加剂组分不蒸发。

    硫化橡胶成形用脱模剂
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109153154B

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201780029731.0

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 提供一种脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有胺化合物的环氧烷加成物(A),所述胺化合物在分子内有4~8个活性氢原子,所述胺化合物的环氧烷加成物(A)的数均分子量为5000~30000,并且,含有50~95质量%的氧亚乙基。

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