热处理装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101256051A

    公开(公告)日:2008-09-03

    申请号:CN200810081581.0

    申请日:2008-02-27

    CPC classification number: Y02P40/57

    Abstract: 在本发明的热处理装置中,将在上面形成热处理对象物的玻璃基板(11)进行热处理用的多个热处理室(10a、10b)沿一定方向连接。各热处理室(10a、10b)在内部具有将玻璃基板(11)放置在正上面进行传送的第1或第2辊道(12a、12b)。第1辊道(12a)是在热处理的温度范围内维克斯硬度随着温度上升而增大的辊道,第2辊道(12b)反之是维克斯硬度减小的辊道。在各热处理室(10a、10b)中排列第1辊道(12a)或第2辊道(12b)的任一种辊道,使得与热处理的设定温度下的玻璃基板(11)的维克斯硬度的硬度差较小。

    热处理装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101256051B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200810081581.0

    申请日:2008-02-27

    CPC classification number: Y02P40/57

    Abstract: 在本发明的热处理装置中,将在上面形成热处理对象物的玻璃基板(11)进行热处理用的多个热处理室(10a、10b)沿一定方向连接。各热处理室(10a、10b)在内部具有将玻璃基板(11)放置在正上面进行传送的第1或第2辊道(12a、12b)。第1辊道(12a)是在热处理的温度范围内维克斯硬度随着温度上升而增大的辊道,第2辊道(12b)反之是维克斯硬度减小的辊道。在各热处理室(10a、10b)中排列第1辊道(12a)或第2辊道(12b)的任一种辊道,使得与热处理的设定温度下的玻璃基板(11)的维克斯硬度的硬度差较小。

Patent Agency Ranking