公开(公告)号：CN117315078B

公开(公告)日：2025-04-01

申请号：CN202311246373.2

申请日：2023-09-26

Applicant: 杭州电子科技大学

Inventor： 王土震 ,  许金兰 ,  肖淑欣 ,  徐岗

IPC: G06T11/20 ,  G06T7/11 ,  G06V10/764 ,  G06V10/82 ,  G06N3/048

Abstract: 本发明公开了一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，该方法首先对给定的特征约束进行分类。其次根据分类结果，若无法直接移动约束所在面片的边界生成高质量的参数化，则分割约束所在面片为多个子面片，使得约束位于新的子面片的边界。然后进行径向基函数插值，将约束点或约束线的端点移动至面片边界。最后对于特征点或线导致面片出现裂缝的情况，采用优化方法，进行确保约束位置不变的局部参数化质量优化，得到满足约束的高质量参数化结果。本发明对质量下降严重的面片进行优化，得到在满足特征约束的同时，质量较高的参数化结果，满足后续分析的应用。

公开(公告)号：CN117315078A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202311246373.2

申请日：2023-09-26

Applicant: 杭州电子科技大学

Inventor： 王土震 ,  许金兰 ,  肖淑欣 ,  徐岗

IPC: G06T11/20 ,  G06T7/11 ,  G06V10/764 ,  G06V10/82 ,  G06N3/048

Abstract: 本发明公开了一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，该方法首先对给定的特征约束进行分类。其次根据分类结果，若无法直接移动约束所在面片的边界生成高质量的参数化，则分割约束所在面片为多个子面片，使得约束位于新的子面片的边界。然后进行径向基函数插值，将约束点或约束线的端点移动至面片边界。最后对于特征点或线导致面片出现裂缝的情况，采用优化方法，进行确保约束位置不变的局部参数化质量优化，得到满足约束的高质量参数化结果。本发明对质量下降严重的面片进行优化，得到在满足特征约束的同时，质量较高的参数化结果，满足后续分析的应用。