一种卧式五轴射流抛光方法及装置

    公开(公告)号:CN118372182B

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410807287.2

    申请日:2024-06-21

    Abstract: 本发明涉及光学元件的超精密加工技术领域,具体是一种卧式五轴射流抛光方法及装置,该装置利用射流抛光装置对工件进行研磨抛光,包括机床本体和射流抛光装置,通过一号直线滑台带动射流喷嘴沿X轴前后移动,一号直线滑台上安装的分度转盘带动射流喷嘴实现B轴摆动;二号直线滑台带动待加工工件沿Z轴左右移动,升降台带动待加工工件沿Y轴上下移动,回转工作台带动代加工工件实现C轴转动,从而实现射流喷嘴和待加工工件之间的五轴移动,使射流喷嘴的轴线和回转工作台的轴线平行或者相交,并使射流喷嘴的出口端距离工件加工表面的距离达到设定位置,满足自由曲面的加工。本发明具有占地面积小、成本低、满足复杂面形加工需求等的特点。

    一种卧式五轴射流抛光方法及装置

    公开(公告)号:CN118372182A

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410807287.2

    申请日:2024-06-21

    Abstract: 本发明涉及光学元件的超精密加工技术领域,具体是一种卧式五轴射流抛光方法及装置,该装置利用射流抛光装置对工件进行研磨抛光,包括机床本体和射流抛光装置,通过一号直线滑台带动射流喷嘴沿X轴前后移动,一号直线滑台上安装的分度转盘带动射流喷嘴实现B轴摆动;二号直线滑台带动待加工工件沿Z轴左右移动,升降台带动待加工工件沿Y轴上下移动,回转工作台带动代加工工件实现C轴转动,从而实现射流喷嘴和待加工工件之间的五轴移动,使射流喷嘴的轴线和回转工作台的轴线平行或者相交,并使射流喷嘴的出口端距离工件加工表面的距离达到设定位置,满足自由曲面的加工。本发明具有占地面积小、成本低、满足复杂面形加工需求等的特点。

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