金属植入物磁共振成像方法、系统、终端及存储介质

    公开(公告)号:CN112630709B

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202011209857.6

    申请日:2020-11-03

    发明人: 李行璇

    IPC分类号: G01R33/28 G01R33/36 A61B5/055

    摘要: 本发明公开了一种金属植入物磁共振成像方法、系统、终端及存储介质,应用于超低场磁共振成像装置,其特征在于,包括:根据所述金属植入物的信息获取安全扫描参数;根据所述安全扫描信息设置所述超低场磁共振成像装置的射频参数及成像参数;根据所述射频参数及所述成像参数进行磁共振成像,能够应用超低场的磁共振成像装置进行金属植入物磁共振成像,获得的图像清晰,不会受到金属植入物高固有磁化率的影响。