公开(公告)号：CN222465080U

公开(公告)日：2025-02-11

申请号：CN202420858364.2

申请日：2024-04-23

Applicant: 杭州和利时自动化有限公司

Inventor： 刘冬梅

IPC: H05K7/02 ,  H05K7/14 ,  H05K5/02

Abstract: 本申请涉及控制柜技术领域，提供一种PLC自动化控制柜，包括：防护柜，设置有内腔；束线部，设置在内腔的腔壁上，束线部上开设有束线槽和滑槽，滑槽内设有适于在滑槽内往复滑动的滑块，滑块上转动连接有档杆；当滑块在滑槽内往复滑动时，档杆阻挡或避让束线槽的槽口，档杆相对滑块转动时阻挡或避让束线槽的槽口。本申请可以实现滑块调节和档杆调节这两种不同的限位调节方式，工作人员可以选择使用两种限位调节方式，实现对线路的束缚整理，避免线路杂乱无序，操作方便高效。

公开(公告)号：CN220239547U

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202321915790.7

申请日：2023-07-20

Applicant: 杭州和利时自动化有限公司

Inventor： 刘冬梅 ,  张书娟 ,  杜雯

IPC: B08B9/087

Abstract: 本实用新型公开了一种反应釜清洁装置，包括用于放置反应釜的底座和用于沿反应釜的周向均匀设置的若干个清洁机构，清洁机构包括：支撑块，其沿竖向设于底座上，且支撑块上设有沿竖向延伸的滑槽；清洁件，其内侧用于贴合于反应釜的外壁，以清洗反应釜；横向驱动组件，其固定端穿设于滑槽中，横向驱动组件的输出端与清洁件的外侧连接；竖向驱动组件，其固定端设于支撑块的顶部，竖向驱动组件的输出端与横向驱动组件的固定端连接。采用上述结构设置的反应釜清洁装置，能够降低操作人员的劳动强度，提高清洁效率以及提高清洁效果。