公开(公告)号：CN102264947A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：CN201080003753.8

申请日：2010-07-01

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 成瀬裕行 ,  唐泽均 ,  横尾健一

IPC: C23C18/31 ,  C25D17/00

CPC classification number: C23C18/1619 ,  C23C18/1616 ,  C23C18/1803 ,  C25D5/08 ,  C25D7/04 ,  C25D17/004 ,  C25D17/08 ,  F02F1/20

Abstract: 一种缸筒的表面处理装置，该装置处理缸筒的内表面。罩部件(32)在其下表面(59)具有多个密封环(54，55，56)。多个密封环(54，55，56)被设计成以所述缸筒(43，67)的中心轴(63)为中心的同心圆状。所述多个密封环(54，55，56)的下端的基准部被设计成具有高低差，以使相对于最靠近所述中心轴(63)的密封环(54)，离中心轴(63)越远的密封环越处于高位。