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公开(公告)号：CN105734508A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201610217904.9
申请日：2016-04-08
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/3414
摘要： 本发明公开了属于靶材制备技术领域的一种氧化物靶材及其制备方法。所述氧化物靶材溅射面的边缘加工有倒角或圆角，溅射面的非主溅射区加工有凹槽结构，所有拐角处加工有圆角。所述的氧化物为Al2O3、TiO2、Nb2O5、HfO2、La2O3、ZnO、MgO、ITO、AZO、IGZO的一种或一种以上。将高纯氧化物粉体通过烧结工艺制备成氧化物靶坯，然后通过机械加工，在氧化物靶坯溅射面的边缘加工出倒角或圆角，在非主溅射区加工出凹槽结构，在所有拐角处加工出圆角，形成氧化物靶材。通过对所述氧化物靶材进行结构优化设计，降低了靶材在溅射中开裂的风险，实现了高质量的溅射镀膜。
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公开(公告)号：CN106587940B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201611094912.5
申请日：2016-12-02
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C04B35/04 , C04B35/626 , C04B35/64 , C23C14/35
摘要： 本发明属于新材料制造及应用技术领域，具体涉及一种高纯致密氧化镁靶材及其制备方法。本发明对行星球磨的氧化镁粉末进行冷等静压成型后真空烧结，得到近净成形高纯致密氧化镁靶材。其中，真空烧结温度为1400～1550℃，保温时间为2～10h，真空度为0.1～1.0Pa。该法制备的高纯致密氧化镁靶材的致密度为98.36％以上，杂质元素总含量为100ppm以下，平均晶粒尺寸为7μm以下，尺寸偏差为3.0μm以下，表面粗糙度Ra低于0.4μm。本发明制备的氧化镁靶材纯度和致密度高、晶粒细小均匀，本发明制备方法生产周期短、生产成本低、生产效率高、可批量生产。
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公开(公告)号：CN107552907A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710929550.5
申请日：2017-10-09
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开一种绿色高效的靶材与背板钎焊装置及方法，钎焊装置包括焊接加热台、焊料加热装置、激光扫描加工装置、钎焊加压部件，集成了靶材与背板加热、激光扫描清洗和表面织构化加工、焊料铺展、靶材与背板压合等工艺，提供的装置能够实现短流程的靶材与背板焊接。采用本发明的装置无需焊接前的化学清洗、喷砂等工艺，焊接流程短、节能环保、成本低、效率高。
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公开(公告)号：CN106587940A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611094912.5
申请日：2016-12-02
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C04B35/04 , C04B35/626 , C04B35/64 , C23C14/35
摘要： 本发明属于新材料制造及应用技术领域，具体涉及一种高纯致密氧化镁靶材及其制备方法。本发明对行星球磨的氧化镁粉末进行冷等静压成型后真空烧结，得到近净成形高纯致密氧化镁靶材。其中，真空烧结温度为1400～1550℃，保温时间为2～10h，真空度为0.1～1.0Pa。该法制备的高纯致密氧化镁靶材的致密度为98.36％以上，杂质元素总含量为100ppm以下，平均晶粒尺寸为7μm以下，尺寸偏差为3.0μm以下，表面粗糙度Ra低于0.4μm。本发明制备的氧化镁靶材纯度和致密度高、晶粒细小均匀，本发明制备方法生产周期短、生产成本低、生产效率高、可批量生产。
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公开(公告)号：CN109590560B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201811525526.6
申请日：2018-12-13
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开一种铁磁性溅射靶材焊接方法及装置，该方法通过永磁吸盘平台对铁磁性靶材的磁力作用，使靶材、焊料与背板之间均匀结合，提高大面积铁磁性靶材焊接质量，靶材焊合率高，靶材厚度均匀性好。该焊接技术，操作简单，可重复性强，利用磁性平台焊接装置可实现大面积铁磁性靶材的高质量焊接，靶材的溅射性能明显提高。
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公开(公告)号：CN105734508B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201610217904.9
申请日：2016-04-08
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明公开了属于靶材制备技术领域的一种氧化物靶材及其制备方法。所述氧化物靶材溅射面的边缘加工有倒角或圆角，溅射面的非主溅射区加工有凹槽结构，所有拐角处加工有圆角。所述的氧化物为Al2O3、TiO2、Nb2O5、HfO2、La2O3、ZnO、MgO、ITO、AZO、IGZO的一种或一种以上。将高纯氧化物粉体通过烧结工艺制备成氧化物靶坯，然后通过机械加工，在氧化物靶坯溅射面的边缘加工出倒角或圆角，在非主溅射区加工出凹槽结构，在所有拐角处加工出圆角，形成氧化物靶材。通过对所述氧化物靶材进行结构优化设计，降低了靶材在溅射中开裂的风险，实现了高质量的溅射镀膜。
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公开(公告)号：CN109590560A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811525526.6
申请日：2018-12-13
申请人： 有研亿金新材料有限公司
CPC分类号： B23K1/0008 , B23K3/00 , B23K3/087
摘要： 本发明公开一种铁磁性溅射靶材焊接方法及装置，该方法通过永磁吸盘平台对铁磁性靶材的磁力作用，使靶材、焊料与背板之间均匀结合，提高大面积铁磁性靶材焊接质量，靶材焊合率高，靶材厚度均匀性好。该焊接技术，操作简单，可重复性强，利用磁性平台焊接装置可实现大面积铁磁性靶材的高质量焊接，靶材的溅射性能明显提高。
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公开(公告)号：CN107904563A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711116637.7
申请日：2017-11-13
申请人： 有研亿金新材料有限公司
CPC分类号： C23C14/3407 , C22F1/183
摘要： 本发明公开了一种大晶粒低硬度溅射钛环制备方法，属于磁控溅射靶材制造技术领域。步骤包括提供高纯钛锭、第一次热处理、热墩、冷轧、第二次热处理、切割、卷圆、第三次热处理。通过对钛锭进行热处理配合变形获得大晶粒低硬度溅射钛环。所述溅射钛环端口呈正“S”形，所述大晶粒的晶粒度大于200μm，所述低硬度的硬度值低于维氏硬度70。与传统的溅射钛环相比，本发明制备的钛环晶粒尺寸大，溅射环变形抗力小，方便安装和拆卸，减少了安装和拆卸过程中对溅射环表面的损伤，既提高了产品质量又降低了操作难度。
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公开(公告)号：CN107511586A
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201710929249.4
申请日：2017-10-09
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 北京工业大学
CPC分类号： B23K26/21 , B23K26/702
摘要： 本发明公开了属于靶材与背板焊接技术领域的一种激光辅助焊接靶材与背板的方法。采用激光扫描的方式进行焊接表面织构化在线处理，随后立即将液态焊料铺展在待焊接表面，采用超声波振动器对铺展覆盖在焊接表面的熔化焊料进行定向超声振荡，排除潜在的细小气泡；激光织构化处理的新鲜材料表面只是在较低的温度下短时间暴露在大气条件下，基本不存在氧化问题，焊接浸润性非常好，焊料能够迅速自动铺展在靶材焊接面，形成致密结合。本发明实现激光和加热台的工艺集成，可以省去焊接前的喷砂工艺，甚至可以不用进行金属化处理工艺，焊接流程短，节能环保，成本低、效率高。
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公开(公告)号：CN208342609U
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201820869501.7
申请日：2018-06-05
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本实用新型公开了属于磁控溅射靶材制造领域的一种磁控溅射钽环喷砂装置，该喷砂装置包括：固定螺钉、喷砂挡块、垫片、密封圈、端头遮挡螺帽和旋转台。通过喷砂挡块上的预置孔对预喷砂位置与尺寸进行控制。将磁控溅射钽环与固定套组安装后放置在旋转台上，对喷砂挡块上的预置孔依次进行喷砂，每次喷砂一个安装轴后转动旋转台，最终使整个磁控溅射钽环的安装轴位置得到均匀喷砂处理。本实用新型提供的钽环喷砂装置，可以有效保证喷砂区域形状与质量，使安装轴位置表面均匀喷砂。通过连续喷砂操作，提高喷砂的效率。
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