公开(公告)号：CN108008478B

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN201711252001.5

申请日：2017-12-01

Applicant: 暨南大学

Inventor： 关贺元 ,  江梦江 ,  李翰光 ,  郎宇威 ,  王晓丽 ,  陈哲 ,  余健辉 ,  卢惠辉 ,  朱文国

IPC: G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种用于1550纳米中心波长的基于金属多层介质膜的偏振选择反射式光栅，包括自内向外依次镀制的石英基底、金属层、匹配层和光栅刻蚀层，所述光栅刻蚀层包括自内向外依次镀制的第一低折射率膜层和第一高折射率膜层，所述匹配层包括自内向外依次镀制的第二低折射率膜层与第二高折射率膜层，所述光栅刻蚀层的周期为1200～1300纳米，占空比为0.2～0.4，第一低折射率膜层的厚度为100～160纳米，第一高折射率膜层的厚度为240～310纳米，第二高折射率层的厚度为90～150纳米；第二低折射率膜层的厚度为240～300纳米，所述的金属层的厚度大于50纳米。本发明具有宽光谱、宽角(56)对比文件Jianpeng Wang.Multilayer dielectricgrating with high-efficiency wide angularspectrum《.Pacific Rim 2009》.2009,全文.Heyuan Guan.Optimization design ofpolarizing beam splitter based on metal-multilayer high-contrast reflectinggrating《.NUSOD 2016》.2016,全文.

公开(公告)号：CN108008478A

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：CN201711252001.5

申请日：2017-12-01

Applicant: 暨南大学

Inventor： 关贺元 ,  江梦江 ,  李翰光 ,  郎宇威 ,  王晓丽 ,  陈哲 ,  余健辉 ,  卢惠辉 ,  朱文国

IPC: G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种用于1550纳米中心波长的基于金属多层介质膜的偏振选择反射式光栅，包括自内向外依次镀制的石英基底、金属层、匹配层和光栅刻蚀层，所述光栅刻蚀层包括自内向外依次镀制的第一低折射率膜层和第一高折射率膜层，所述匹配层包括自内向外依次镀制的第二低折射率膜层与第二高折射率膜层，所述光栅刻蚀层的周期为1200～1300纳米，占空比为0.2～0.4，第一低折射率膜层的厚度为100～160纳米，第一高折射率膜层的厚度为240～310纳米，第二高折射率层的厚度为90～150纳米；第二低折射率膜层的厚度为240～300纳米，所述的金属层的厚度大于50纳米。本发明具有宽光谱、宽角谱、高衍射效率等特点，且对不同偏振的入射光表现出完全不同的衍射特性。