-
公开(公告)号:CN109683112A
公开(公告)日:2019-04-26
申请号:CN201811602072.8
申请日:2018-12-26
Applicant: 暨南大学
IPC: G01R33/032
CPC classification number: G01R33/032 , G01R33/0052
Abstract: 本发明涉及光纤磁场传感器技术领域,具体公开了一种磁流体披覆侧抛光纤的磁场传感器及其制备与检测方法,所述磁场传感器包括侧边抛磨光纤、披覆在抛磨区周围的磁流体、光源以及用于检测透射光谱的光谱仪,所述抛磨光纤是通过光纤抛磨掉部分包层制作而成;所述抛磨光纤上设有玻璃毛细管以及光学紫外胶,所述磁流体通过玻璃毛细管以及光学紫外胶密封包裹在侧边抛磨光纤周围;在磁场作用下,纳米粒子随磁场方向汇集或分散,使得纳米粒子的折射率受到磁场强度与方向的控制,从而在纳米粒子与抛磨光纤之间的倏逝场相互作用下,透射光谱信号会受到磁场强度与方向的控制,构成磁场传感器。本发明在于能灵敏地检测到磁场强度与方向的变化,有助于实现高灵敏度磁场测量。
-
公开(公告)号:CN209707668U
公开(公告)日:2019-11-29
申请号:CN201822200556.1
申请日:2018-12-26
Applicant: 暨南大学
IPC: G01R33/032
Abstract: 本实用新型涉及光纤磁场传感器技术领域,具体提供了一种磁流体披覆侧抛光纤的磁场传感器,包括侧边抛磨光纤、披覆在抛磨区周围的磁流体、光源以及用于检测透射光谱的光谱仪,所述抛磨光纤是通过光纤抛磨掉部分包层制作而成;所述抛磨光纤上设有玻璃毛细管以及光学紫外胶,所述磁流体通过玻璃毛细管以及光学紫外胶密封包裹在侧边抛磨光纤周围;在磁场作用下,纳米粒子随磁场方向汇集或分散,使得纳米粒子的折射率受到磁场强度与方向的控制,从而在纳米粒子与抛磨光纤之间的倏逝场相互作用下,透射光谱信号会受到磁场强度与方向的控制,构成磁场传感器。本实用新型在于能灵敏地检测到磁场强度与方向的变化,有助于实现高灵敏度磁场测量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-