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发明公开
用于井下光学流体分析仪的高压光学单元无效

公开(公告)号：CN101305160A

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200680041620.3

申请日：2006-11-10

Applicant: 普拉德研究及开发股份有限公司

Inventor： 寺林彻 , 簗瀬刚

IPC: E21B47/10 , E21B49/10 , G01N33/24 , G01N33/28

CPC classification number: E21B49/10 , E21B47/011 , E21B47/102

Abstract: 一种用于分析地下地层流体的装置，包括井下工具(10)、设置在井下工具内的流体分析模块(100)、穿过流体分析模块的地层流体流动路径(102)、设置在流体分析模块内的第一空腔(110)和第二空腔(112)、以及分别设置在流体分析模块的第一空腔和第二空腔内的第一窗(114)和第二窗(lie)。第一窗和第二窗每个都包括能够使高压流体隔离的抛光外密封表面。

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