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公开(公告)号:CN1080141C
公开(公告)日:2002-03-06
申请号:CN93118251.4
申请日:1993-09-30
Applicant: 明尼苏达州采矿和制造公司
Inventor: 阿尔伯特·E·西维尔 , 威廉·R·伯格伦 , 丹尼尔·R·丹尼尔森 , 欧格内·E·哈金斯 , 罗斯·M·凯德尔
IPC: B05B5/025
CPC classification number: B05B5/0255
Abstract: 一种将薄涂层施加于基底上的电喷射涂敷头系统及喷涂方法。该系统包括一个缝隙或叶片,以计量进入成形构件的液体,迫使环绕成形构件的液体具有单一连续且基本恒定的曲率半径,将一电压施加于成形构件周围的液体,使液体产生一簇空间上暂时固定的流束,流束的数目可通过简单地调整施加的电压来确定,流束间断,形成均匀的荷电液珠雾,再由电场引向基底,产生涂层。
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公开(公告)号:CN1088135A
公开(公告)日:1994-06-22
申请号:CN93118251.4
申请日:1993-09-30
Applicant: 明尼苏达州采矿和制造公司
Inventor: 阿尔伯特·E·西维尔 , 威廉·R·伯格伦 , 丹尼尔·R·丹尼尔森 , 欧格内·E·哈金斯 , 罗斯·M·凯德尔
CPC classification number: B05B5/0255
Abstract: 一种将薄涂层施加于基底上的电喷射涂敷头系统及喷涂方法。该系统包括一个缝隙或叶片,以计量进入成型构件的液体,迫使环绕成型构件的液体具有单一连续且基本恒定的曲率半径,将一电压施加于成型构件周围的液体,使液体产生一簇空间上暂时固定的流束,流束的数目可通过简单地调整施加的电压来确定,流束间断,形成均匀的荷电液珠雾,再由电场引向基底,产生涂层。
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