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公开(公告)号：CN105895518A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610084889.5
申请日：2016-02-14
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 铃木胜 , 大槻寿彦
IPC: H01L21/304 , B24B37/04 , C09K3/14
Abstract: 本发明涉及一种研磨剂、研磨方法和半导体集成电路装置的制造方法，所述研磨剂的特征在于，其含有氧化铈粒子、水溶性多胺、氢氧化钾、选自有机酸及其盐中的至少一者、和水，且其pH为10以上。
