Patent search ap:("旭化成株式会社") AND inv:"小泷雄太" Page 1

1.

发明公开
离子交换膜、离子交换膜的制造方法和电解槽审中-实审

公开(公告)号：CN112095119A

公开(公告)日：2020-12-18

申请号：CN202010542472.5

申请日：2020-06-15

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 小泷雄太 , 贝原慎一 , 冈本浩司 , 五十岚雄太

IPC: C25B13/08 , C25B13/02 , C25B1/46 , B05D7/24

Abstract: 本发明提供离子交换膜、离子交换膜的制造方法和电解槽，该离子交换膜在供至电分解时能够降低电解电压，此外电解液中的杂质对电解性能的影响小，可稳定地发挥出电解性能。本发明的离子交换膜具有：包含具有离子交换基团的含氟系聚合物的膜主体、以及配置在上述膜主体的至少一个面上的被覆层，其中，上述被覆层包含无机物颗粒和粘结剂，上述被覆层中，相对于上述无机物颗粒和粘结剂的总质量，上述粘结剂的质量比为0.3以上0.9以下，上述被覆层在上述膜主体上的被覆率为50％以上。

Patent Agency Ranking