公开(公告)号：CN118405320A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202410850946.0

申请日：2024-06-28

申请人： 日达智造科技(如皋)有限公司

发明人： 陈海彦 ,  丁钰鹏 ,  崔星亮 ,  魏明春

IPC分类号： B65B41/16 ,  B65B33/02 ,  B65B57/04 ,  B65H16/06 ,  B65H20/02 ,  B65H23/038

摘要： 本发明涉及应用于贴膜供料技术领域的一种自主接膜式贴膜供料器，通过膜偏移监测单元的设置，可以在膜料进行分膜前对其移动情况进行监测，当其移动与既定轨迹出现偏移时，在压料辊的作用下，可自动对偏移的膜料进行修正，进而有效保证后续稳定精准分膜，进而提高出膜精度，降低因膜料偏移造成抛料率提高的问题，大幅度降低材料的浪费，并且在接膜平台以及分膜检测单元的配合下，一方面接膜平台可以为分膜后的膜片提供承托力，有效避免因无承托导致膜片掉落或者无法与膜料顺利分离的情况发生，另一方面可对出膜情况进行监测，从而能及时发觉出膜异常的问题，进而便于工作人员及时进行相应修正，进一步提高出膜精度，降低抛料率。

公开(公告)号：CN217411674U

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202221450260.5

申请日：2022-06-10

申请人： 日达智造科技(如皋)有限公司

发明人： 吴奇 ,  陈彦勋 ,  魏明春

IPC分类号： B08B3/02 ,  B08B3/14

摘要： 本实用新型涉及一种雾化振荡滴淋双清洗机构及清洁生产线。解决了现有清洗机构接触反应不充分且效率低的技术问题。本雾化振荡滴淋双清洗机构包括：安装架，上端设有沿安装架长度方向设置的安装槽；输送带，设置在所述安装槽中且所述输送带上设有连续设置的置料治具；雾化装置，具有至少一个设置在所述安装架上端且底部与安装槽连通的雾化仓，所述雾化仓中设有喷头方向朝向输送带的雾化清洗头；滴淋装置，具有设置在所述雾化装置一侧且底部与底部安装槽连通的滴淋仓。本雾化振荡滴淋双清洗机构自动化程度高，使清洗接触充分且表面无残留，同时达到后置清洁的效果，而且在冲刷过程中形成双向对冲的效果，提升清洁效率。