公开(公告)号：CN102120831A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN201010561853.4

申请日：2010-11-24

Applicant: 日立电线株式会社 ,  国立大学法人宇都宫大学

Inventor： 后藤敏晴 ,  葭田真昭 ,  小林亮介

IPC: C08J11/16

CPC classification number: C08J11/16 ,  C08J2323/06 ,  Y02W30/705

Abstract: 本发明提供一种具有碳-碳键骨架的聚合物的处理方法及其根据该处理方法所得到的生成物，该处理方法，能够优先切断具有碳-碳键骨架的聚合物的碳-碳键分支点，同时能够利用容易获得的廉价的物质来处理具有碳-碳键骨架的聚合物。该处理方法是在压力为5.0MPa以上，温度高于140℃且低于200℃的气体氛围中，并且利用该气体氛围中所包含的氧气对具有碳-碳键骨架的聚合物进行氧化处理的处理方法。

公开(公告)号：CN102120831B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201010561853.4

申请日：2010-11-24

Applicant: 日立金属株式会社 ,  国立大学法人宇都宫大学

Inventor： 后藤敏晴 ,  葭田真昭 ,  小林亮介

IPC: C08J11/16

CPC classification number: C08J11/16 ,  C08J2323/06 ,  Y02W30/705

Abstract: 本发明提供一种具有碳-碳键骨架的聚合物的处理方法及其根据该处理方法所得到的生成物，该处理方法，能够优先切断具有碳-碳键骨架的聚合物的碳-碳键分支点，同时能够利用容易获得的廉价的物质来处理具有碳-碳键骨架的聚合物。该处理方法是在压力为5.0MPa以上，温度高于140℃且低于200℃的气体氛围中，并且利用该气体氛围中所包含的氧气对具有碳-碳键骨架的聚合物进行氧化处理的处理方法。