物理量测定装置及其制造方法、以及物理量测定元件

    公开(公告)号:CN109154531A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780022928.1

    申请日:2017-04-13

    Abstract: 提供一种使接合层的接合温度降低到不影响半导体芯片动作的温度,确保半导体芯片和基台的绝缘性的物理量测定装置。包括:基台(隔膜(14b));基于作用于基台的应力来测定物理量的半导体芯片(应变检测元件(30));将半导体芯片接合到基台的接合层(20)。接合层(20)具有:接合于半导体芯片的第一接合层(21);接合于基台的第二接合层(22);配置于第一接合层(21)和第二接合层(22)之间的绝缘基材(23)。第一接合层(21)及第二接合层(22)包含玻璃。第一接合层(21)的热膨胀系数为第二接合层(22)的热膨胀系数以下,第二接合层(22)的软化点为半导体芯片的耐热温度以下,第一接合层(21)的软化点为第二接合层(22)的软化点以下。

    物理量测定装置及其制造方法、以及物理量测定元件

    公开(公告)号:CN109154531B

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN201780022928.1

    申请日:2017-04-13

    Abstract: 提供一种使接合层的接合温度降低到不影响半导体芯片动作的温度,确保半导体芯片和基台的绝缘性的物理量测定装置。包括:基台(隔膜(14b));基于作用于基台的应力来测定物理量的半导体芯片(应变检测元件(30));将半导体芯片接合到基台的接合层(20)。接合层(20)具有:接合于半导体芯片的第一接合层(21);接合于基台的第二接合层(22);配置于第一接合层(21)和第二接合层(22)之间的绝缘基材(23)。第一接合层(21)及第二接合层(22)包含玻璃。第一接合层(21)的热膨胀系数为第二接合层(22)的热膨胀系数以下,第一接合层(21)的软化点为半导体芯片的耐热温度以下,第二接合层(22)的软化点为第一接合层(21)的软化点以下。

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