公开(公告)号：CN105102689A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480018943.5

申请日：2014-03-24

Applicant: 日本表面化学株式会社

Inventor： 大町光宽 ,  金子厚 ,  伊藤聪志

IPC: C25D3/56

CPC classification number: C25D3/565 ,  C25D5/36 ,  C25D5/48

Abstract: 本发明提供一种高镍镀浴，是弱酸性的镀浴，且即使在3A/dm2以上的电流密度下也可以稳定地获得镍的比例为11～19％(更优选为12～18％)的镀膜。本发明提供含有以下式表示的胺化合物的酸性锌镍合金电镀液。H2N－R1－R2(其中，R1为[(CH2)M－NH]L、或(CH2)N，R2为H、NH2、或R3，R3为碳数为1、2、3、4、或5的链烷醇基或烷氧基，L为2、3、4、或5，M为2、3、4、或5，N为3、4、或5)。

公开(公告)号：CN105102689B

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201480018943.5

申请日：2014-03-24

Applicant: 日本表面化学株式会社

Inventor： 大町光宽 ,  金子厚 ,  伊藤聪志

IPC: C25D3/56

CPC classification number: C25D3/565 ,  C25D5/36 ,  C25D5/48

Abstract: 本发明提供一种高镍镀浴，是弱酸性的镀浴，且即使在3A/dm2以上的电流密度下也可以稳定地获得镍的比例为11～19％(更优选为12～18％)的镀膜。本发明提供含有以下式表示的胺化合物的酸性锌镍合金电镀液。H2N－R1－R2(其中，R1为[(CH2)M－NH]L、或(CH2)N，R2为H、NH2、或R3，R3为碳数为1、2、3、4、或5的链烷醇基或烷氧基，L为2、3、4、或5，M为2、3、4、或5，N为3、4、或5)。