公开(公告)号：CN1237205C

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN00136258.5

申请日：2000-12-18

Applicant: 日本电气株式会社 ,  关东化学株式会社

Inventor： 长谷卓 ,  宫坂洋一 ,  新内聡畅 ,  森冈洋 ,  山手拓 ,  桂木速人 ,  森清人

IPC: C23C18/12 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C18/1216

Abstract: 提供能够形成无涂布不匀(条痕)的均匀薄膜的铁电体薄膜形成用溶液及铁电体薄膜形成方法。还提供以含有选自改性硅油或者氟型表面活性剂中的至少一种为特征的铁电体薄膜形成用溶液及使用该溶液的铁电体薄膜形成方法。

公开(公告)号：CN1303954A

公开(公告)日：2001-07-18

申请号：CN00136258.5

申请日：2000-12-18

Applicant: 日本电气株式会社 ,  关东化学株式会社

Inventor： 长谷卓 ,  宫坂洋一 ,  新内聬畅 ,  森冈洋 ,  山手拓 ,  桂木速人 ,  森清人

IPC: C23C18/12 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C18/1216

Abstract: 提供能够形成无涂布不匀(条痕)的均匀薄膜的强电介质薄膜形成用溶液及强电介质薄膜形成方法。还提供以含有选自改性硅油或者氟型表面活性剂中的至少一种为特征的强电介质薄膜形成用溶液及使用该溶液的强电介质薄膜形成方法。