公开(公告)号：CN101263180A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200680034022.3

申请日：2006-09-13

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 长谷川匡俊 ,  国方贤治

IPC: C08G73/22 ,  G02F1/1333

Abstract: 揭示了一种同时具有高玻璃化转变温度，高透明度，在溶剂中的高溶解性，低双折射，低吸水性和足够韧性的聚苯并噁唑。还揭示了此种聚苯并噁唑构成的膜。特别揭示了包含式(1)所示的单体单元作为重复单元的聚苯并噁唑，以及由该苯并噁唑形成的衬底材料，式中R表示二价脂环基团；P分别表示氢原子，包含1－12个碳原子的直链或支链的烷基；包含1－12个碳原子的直链或支链的烯基，包含1－12个碳原子的直链或支链的烷氧基，包含6－12个碳原子的脂环基团或包含6－12个碳原子的芳族基团，所述脂族基团和芳族基团可以各自包含含有卤素、氮或氧的取代基；P可以互不相同。

公开(公告)号：CN101675027A

公开(公告)日：2010-03-17

申请号：CN200880009349.4

申请日：2008-03-18

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 国方贤治 ,  高本大平 ,  关根健二

IPC: C07C215/80 ,  C07C205/23 ,  C08G73/22

CPC classification number: C08G73/22 ,  C07C215/74

Abstract: 本发明提供一种3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇及其原料3，3’-二硝基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇。上述3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇可用作高性能聚合物的单体，特别是聚苯并恶唑或聚酰亚胺等满足半导体领域中的高度性能要求的聚合物的单体。本发明还提供含有下述式(1)所表示的重复单元的聚苯并恶唑，式中R为二价的二羧酸残基。

公开(公告)号：CN101675027B

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN200880009349.4

申请日：2008-03-18

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 国方贤治 ,  高本大平 ,  关根健二

IPC: C07C215/80 ,  C07C205/23 ,  C08G73/22

CPC classification number: C08G73/22 ,  C07C215/74

Abstract: 本发明提供一种3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇及其原料3，3’-二硝基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇。上述3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇可用作高性能聚合物的单体，特别是聚苯并恶唑或聚酰亚胺等满足半导体领域中的高度性能要求的聚合物的单体。本发明还提供含有下述式(1)所表示的重复单元的聚苯并恶唑，式中R为二价的二羧酸残基。