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公开(公告)号：CN1313914A
公开(公告)日：2001-09-19
申请号：CN00801145.1
申请日：2000-06-14
Applicant: 日新电机株式会社
CPC classification number: C23C16/30 , C23C16/0245 , C23C16/26 , Y10T428/30
Abstract: 本发明涉及包含氟和氢的碳膜,该碳膜的FT－IR(傅里叶变换红外线)分光分析法的光谱中,来源于C－F键的1000cm－1～1300cm－1的峰面积(IR·C－F)和来源于C－H键的2800cm－1～3100cm－1的峰面积(IR·C－H)之比(IR·C－F)/(IR·C－H)大于0,且XPS(X射线光电子分光分析法)光谱中,来源于F1S的峰强度和来源于C1S的峰强度之比(F1S/C1S)大于0小于3。还涉及包含氢和氮的碳膜,以及包含氢和1种或2种以上选自金属单体、金属化合物、硅单体、硅化合物的物质的碳膜。
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公开(公告)号：CN1174116C
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN01135772.X
申请日：2001-10-17
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: C23C16/26
CPC classification number: C23C16/26 , Y10T428/30
Abstract: 本发明涉及一种含有碳作为主要成分，形成在软基体材料4上的碳膜C，其特征在于碳膜C被A分裂并且分成许多区域B，被裂缝A围起来的各区域(块)的平均面积为0.15×10-3mm2～20×10-3mm2。
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公开(公告)号：CN1170003C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN00801145.1
申请日：2000-06-14
Applicant: 日新电机株式会社
CPC classification number: C23C16/30 , C23C16/0245 , C23C16/26 , Y10T428/30
Abstract: 本发明涉及包含氟和氢的碳膜，该碳膜的FT-IR(傅里叶变换红外线)分光分析法的光谱中，来源于C-F键的1000cm-1～1300cm-1的峰面积(IR·C-F)和来源于C-H键的2800cm-1～3100cm-1的峰面积(IR·C-H)之比(IR·C-F)/(IR·C-H)大于0，且XPS(X射线光电子分光分析法)光谱中，来源于F1S的峰强度和来源于C1S的峰强度之比(F1S/C1S)大于0小于3。还涉及包含氢和氮的碳膜，以及包含氢和1种或2种以上选自金属单体、金属化合物、硅单体、硅化合物的物质的碳膜。
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公开(公告)号：CN1354276A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01135772.X
申请日：2001-10-17
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: C23C16/26
CPC classification number: C23C16/26 , Y10T428/30
Abstract: 本发明涉及一种含有碳作为主要成分,形成在软基体材料4上的碳膜C,其特征在于碳膜C被A分裂并且分成许多区域B,被裂缝A围起来的各区域(块)的平均面积为0.15×10－3mm2～20×10－3mm2。
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