公开(公告)号：CN1856369A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200480027325.3

申请日：2004-10-20

Applicant: 日华化学株式会社 ,  本田技研工业株式会社

Inventor： 齐藤彻 ,  栃川宏文 ,  牧野公博 ,  东条英明

IPC: B05D5/06 ,  B05D7/24 ,  C09D175/04

CPC classification number: C09D175/04 ,  Y10T428/263

Abstract: 一种固体表面的上光方法，其通过在固体表面上形成覆膜，对该固体表面赋予光泽，其包括：使用至少含有以下成分的覆膜形成用涂布液：具有大于等于2个异氰酸酯基的异氰酸酯化合物、具有与上述异氰酸酯基反应而键合的官能团的合成树脂、和有机溶剂；将上述覆膜形成用涂布液涂布于上述固体表面的涂布工序；和在上述涂布工序之后在上述固体表面形成覆膜的覆膜形成工序，其特征在于：在上述涂布工序中，调节上述覆膜形成用涂布液的涂布量以使上述覆膜形成工序后的覆膜的膜厚达到0.1μm～5μm的范围。

公开(公告)号：CN100340624C

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200480006158.4

申请日：2004-03-05

Applicant: 日华化学株式会社 ,  本田技研工业株式会社

Inventor： 齐藤彻 ,  栃川宏文 ,  牧野公博 ,  东条英明

IPC: C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  C09D5/00

CPC classification number: C09G1/04 ,  C09D183/04 ,  C09G1/16 ,  C08L2666/28

Abstract: 一种亲水化处理剂组合物，其含有具有支链的表面活性剂，以下通式(1)所示的硅酸酯化合物，选自以下通式(2)及(3)所示的硅烷偶合剂的至少一种，有机溶剂，催化剂和水。(其中，在式(1)中，R1可以相同或不同的，且分别是氢原子或具有1-3碳原子的烷基，且m是1-40的整数)。(在式(2)及(3)中，R表示具有1-8碳原子的烷基等，R2表示氢原子或具有1-4碳原子的烷基，n是1-10的整数)。

公开(公告)号：CN1756819A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200480006158.4

申请日：2004-03-05

Applicant: 日华化学株式会社 ,  本田技研工业株式会社

Inventor： 齐藤彻 ,  栃川宏文 ,  牧野公博 ,  东条英明

IPC: C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  C09D5/00

CPC classification number: C09G1/04 ,  C09D183/04 ,  C09G1/16 ,  C08L2666/28

Abstract: 一种亲水化处理剂组合物，其含有具有支链的表面活性剂，以下通式(1)所示的硅酸盐化合物，选自以下通式(2)及(3)所示的硅烷偶合剂的至少一种，有机溶剂，催化剂和水。其中，在式(1)中，R1可以相同或不同的，且分别是氢原子或具有1－3碳原子的烷基，且m是1－40的整数。在式(2)及(3)中，R表示具有1－8碳原子的烷基等，R2表示氢原子或具有1－4碳原子的烷基，n是1－10的整数。