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公开(公告)号：CN116685657A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202280009658.1
申请日：2022-01-11
Applicant: 日产化学株式会社 , 日产化学美国株式会社
Inventor： 大堀贵广 , 北川裕丈 , 村上智 , 塞缪尔·马奎尔-波意尔 , 约翰·索思韦尔
IPC: C09K8/03
Abstract: 一种用于地下注入的化学流体包括无机物质、抗氧化剂(例如抗坏血酸、葡糖酸或其盐、或α‑乙酰基‑γ‑丁内酯、或亚硫酸氢盐或焦亚硫酸盐)和水。无机物质可以是胶体粒子或粉末。基于用于地下注入的化学流体的总质量计，无机物质可以以0.001质量％至50质量％的量存在于化学流体中。抗氧化剂可以以0.0001至2的抗氧化剂质量/无机物质质量的比率存在于化学流体中。无机物质的表面可以被硅烷化合物涂布。所述化学流体可进一步包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂、非离子表面活性剂或其混合物。
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公开(公告)号：CN111788154B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN201980015451.3
申请日：2019-02-25
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C01B33/142 , B82Y40/00
Abstract: 通过向活性硅酸水溶液中添加成为阴离子源的化合物和作为碱源的氨，并在规定的温度下进行加热，来提供金属杂质少的、细长粒子形状的胶体二氧化硅粒子分散于溶剂中而成的硅溶胶的制造方法。一种硅溶胶制造方法，所述硅溶胶通过动态光散射法测得的平均粒径(DL nm)与通过氮气吸附法测得的一次粒径(DB nm)之比DL/DB为2.5以上，所述制造方法包括(a)工序和(b)工序，所述(a)工序是制作原料液的工序，其包括向SiO2浓度为1～6质量％、且pH为2～5的活性硅酸的胶体水溶液中添加氨和相对于SiO2的质量比成为3.0～7.0的量的成为阴离子源的化合物的步骤，所述化合物是选自无机酸、有机酸、及它们的铵盐中的至少1种，所述(b)工序是将通过(a)工序得到的原料液在80～200℃加热0.5～20小时来制造硅溶胶的工序。
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公开(公告)号：CN111788153B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN201980015361.4
申请日：2019-02-25
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C01B33/142 , B82Y40/00
Abstract: 通过向硅溶胶中添加成为阴离子源的化合物和作为碱源的氨，并在规定的温度下进行加热，来提供金属杂质少的、细长的粒子形状的胶体二氧化硅分散于溶剂中而成的硅溶胶的制造方法。一种硅溶胶的制造方法，所述硅溶胶通过动态光散射法测得的平均粒径(DL nm)与通过氮气吸附法测得的一次粒径(DB nm)之比DL/DB为2.5以上，所述制造方法包括(a)工序和(b)工序，(a)工序是制作原料液的工序，其包括向具有1质量％～30质量％的SiO2、且pH为2～5的成为原料的硅溶胶中添加氨和相对于SiO2的质量比成为0.5％～1.9％的量的成为阴离子源的化合物的步骤，所述化合物是选自无机酸、有机酸、及它们的铵盐中的至少1种，(b)工序是将通过(a)工序得到的原料液在80℃～200℃加热0.5小时～20小时的工序。
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公开(公告)号：CN112714755A
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN201980060921.8
申请日：2019-05-29
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供即使在150℃以上的高温环境下也可以抑制从水泥浆产生游离水的添加剂。解决手段是一种二氧化硅系添加剂、以及含有该二氧化硅系添加剂的固井用水泥浆，上述二氧化硅系添加剂是在油田和气田的固井用水泥浆中，在100℃以上、特别是150℃以上且300℃以下的高温/高压环境下抑制游离水的二氧化硅系添加剂，其包含水性二氧化硅溶胶，上述水性二氧化硅溶胶含有具有2.15g/cm3以上且小于2.30g/cm3的真密度的纳米二氧化硅粒子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111788154A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015451.3
申请日：2019-02-25
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C01B33/142 , B82Y40/00
Abstract: 通过向活性硅酸水溶液中添加成为阴离子源的化合物和作为碱源的氨，并在规定的温度下进行加热，来提供金属杂质少的、细长粒子形状的胶体二氧化硅粒子分散于溶剂中而成的硅溶胶的制造方法。一种硅溶胶制造方法，所述硅溶胶通过动态光散射法测得的平均粒径(DL nm)与通过氮气吸附法测得的一次粒径(DB nm)之比DL/DB为2.5以上，所述制造方法包括(a)工序和(b)工序，所述(a)工序是制作原料液的工序，其包括向SiO2浓度为1～6质量％、且pH为2～5的活性硅酸的胶体水溶液中添加氨和相对于SiO2的质量比成为3.0～7.0的量的成为阴离子源的化合物的步骤，所述化合物是选自无机酸、有机酸、及它们的铵盐中的至少1种，所述(b)工序是将通过(a)工序得到的原料液在80～200℃加热0.5～20小时来制造硅溶胶的工序。
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公开(公告)号：CN111788153A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015361.4
申请日：2019-02-25
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C01B33/142 , B82Y40/00
Abstract: 通过向硅溶胶中添加成为阴离子源的化合物和作为碱源的氨，并在规定的温度下进行加热，来提供金属杂质少的、细长的粒子形状的胶体二氧化硅分散于溶剂中而成的硅溶胶的制造方法。一种硅溶胶的制造方法，所述硅溶胶通过动态光散射法测得的平均粒径(DL nm)与通过氮气吸附法测得的一次粒径(DB nm)之比DL/DB为2.5以上，所述制造方法包括(a)工序和(b)工序，(a)工序是制作原料液的工序，其包括向具有1质量％～30质量％的SiO2、且pH为2～5的成为原料的硅溶胶中添加氨和相对于SiO2的质量比成为0.5％～1.9％的量的成为阴离子源的化合物的步骤，所述化合物是选自无机酸、有机酸、及它们的铵盐中的至少1种，(b)工序是将通过(a)工序得到的原料液在80℃～200℃加热0.5小时～20小时的工序。
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公开(公告)号：CN117881629A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202280058941.3
申请日：2022-08-26
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C01B33/149 , C01B13/14
Abstract: 本发明的课题是提供一种即使在高温或高盐分下分散稳定性也较高的无机氧化物粒子的分散液，尤其是氧化硅粒子的分散液。一种分散体，其是以含有氧化硅的无机氧化物粒子作为分散质，且将液状介质作为分散介质的分散体，所述氧化硅是被水解性硅烷表面修饰了的与硅烷结合的氧化硅，所述分散介质包含所述水解性硅烷的水解物，并且(分散介质中的水解性硅烷的水解物中的硅原子摩尔数)/(与无机氧化物粒子表面结合的硅烷的硅原子摩尔数)的比例为0.2～30，所述分散体包含Q4结构比所述硅烷的表面修饰之前增加了的所述氧化硅粒子，所述Q4结构是通过Si‑NMR观测到的氧化硅粒子的硅原子间的交联氧相对于硅原子1个为4/2个的结构。
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公开(公告)号：CN113727955B
公开(公告)日：2023-02-21
申请号：CN202080030675.4
申请日：2020-04-07
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 提供在寒冷地带、温暖地带、高温地带的所有环境下都能够抑制从水泥浆的游离水的产生的坑井用水泥浆用添加剂及其保管方法。坑井用水泥浆用添加剂，其包含采用动态光散射法得到的平均粒径3～200nm的二氧化硅的水性分散液、和作为分散稳定剂的具有醇性羟基的化合物，相对于二氧化硅的水性分散液中的分散介质1000g，包含1～30摩尔的该化合物。
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公开(公告)号：CN112714755B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN201980060921.8
申请日：2019-05-29
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供即使在150℃以上的高温环境下也可以抑制从水泥浆产生游离水的添加剂。解决手段是一种二氧化硅系添加剂、以及含有该二氧化硅系添加剂的固井用水泥浆，上述二氧化硅系添加剂是在油田和气田的固井用水泥浆中，在100℃以上、特别是150℃以上且300℃以下的高温/高压环境下抑制游离水的二氧化硅系添加剂，其包含水性二氧化硅溶胶，上述水性二氧化硅溶胶含有具有2.15g/cm3以上且小于2.30g/cm3的真密度的纳米二氧化硅粒子。
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