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公开(公告)号：CN107531492B
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN201680026873.7
申请日：2016-05-11
Applicant: 日产化学工业株式会社 , 国立大学法人新泻大学
IPC: C01B33/145 , C08F292/00
Abstract: 在胶体二氧化硅的表面键合有下述通式(1)所表示的第1甲硅烷基和下述通式(2)所表示的第2甲硅烷基，并且以20℃下的相对介电常数为15以上且小于60的极性溶剂S1与20℃下的相对介电常数为1以上且小于15的非极性溶剂S2的质量比S1/S2为的混合溶剂为分散介质，R1aSi(OR2)3‑aO‑(1)(式(1)中，R1为碳数的取代或无取代的烷基或苯基，R2为碳数的烷基或碳数的烷氧基烷基，a为1～3)，R3bSi(OR4)3‑bO‑(2)(式(2)中，R3的至少1个为被氨基、氨基烷基或烷基氨基中的任一者取代的碳数的烷基，R4为碳数的烷基，b为1或2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107531492A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680026873.7
申请日：2016-05-11
Applicant: 日产化学工业株式会社 , 国立大学法人新泻大学
IPC: C01B33/145 , C08F292/00
Abstract: 在胶体二氧化硅的表面键合有下述通式(1)所表示的第1甲硅烷基和下述通式(2)所表示的第2甲硅烷基，并且以20℃下的相对介电常数为15以上且小于60的极性溶剂S1与20℃下的相对介电常数为1以上且小于15的非极性溶剂S2的质量比S1/S2为的混合溶剂为分散介质，R1aSi(OR2)3‑aO‑ (1)(式(1)中，R1为碳数的取代或无取代的烷基或苯基，R2为碳数的烷基或碳数的烷氧基烷基，a为1～3)，R3bSi(OR4)3‑bO‑ (2)(式(2)中，R3的至少1个为被氨基、氨基烷基或烷基氨基中的任一者取代的碳数的烷基，R4为碳数的烷基，b为1或2)。
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公开(公告)号：CN104272145B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201380024655.6
申请日：2013-05-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08J2379/04 , C09D179/04 , G02B5/0226 , G02B5/0236 , G02B5/0242 , G02B5/0268 , H01L27/3241 , H01L51/5253 , H01L51/5268 , H01L51/5275 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K5/0025 , C08K9/06 , C08K9/08
Abstract: 含有例如包含下述式(17)所示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂和光扩散剂的膜形成用组合物给予光扩散性良好的固化膜，而且含有该聚合物、交联剂和具有交联性官能团的无机微粒的膜形成用组合物能给予高温高湿耐性良好的固化膜。
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公开(公告)号：CN103154138A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180048927.7
申请日：2011-08-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L79/04 , C08G73/06 , C08K3/00 , G02F1/1335 , H01L21/312
CPC classification number: C09D179/02 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08K3/22 , C08K2003/2231 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C09D179/04 , C09D201/005 , H01L31/02327 , C08K9/06
Abstract: 本发明提供一种包括含三嗪环的超支化聚合物和无机微粒的成膜用组合物，所述超支化聚合物具有下式（1）表示的重复单元结构。由此可以提供下述成膜用组合物：其能够在不降低无机微粒在分散液中的分散性的情况下杂交，能够得到具有高折射率的膜，且适用于制作电子器件用膜，式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，Ar表示包括芳族环和杂环的任一者或两者的二价有机基团。
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公开(公告)号：CN103154138B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201180048927.7
申请日：2011-08-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L79/04 , C08G73/06 , C08K3/00 , G02F1/1335 , H01L21/312
CPC classification number: C09D179/02 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08K3/22 , C08K2003/2231 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C09D179/04 , C09D201/005 , H01L31/02327 , C08K9/06
Abstract: 本发明提供一种包括含三嗪环的超支化聚合物和无机微粒的成膜用组合物，所述超支化聚合物具有下式（1）表示的重复单元结构。由此可以提供下述成膜用组合物：其能够在不降低无机微粒在分散液中的分散性的情况下杂交，能够得到具有高折射率的膜，且适用于制作电子器件用膜，式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，Ar表示包括芳族环和杂环的任一者或两者的二价有机基团。
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公开(公告)号：CN104272145A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380024655.6
申请日：2013-05-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08J2379/04 , C09D179/04 , G02B5/0226 , G02B5/0236 , G02B5/0242 , G02B5/0268 , H01L27/3241 , H01L51/5253 , H01L51/5268 , H01L51/5275 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K5/0025 , C08K9/06 , C08K9/08 , C08K2003/2241 , C08K2201/003 , C09D7/61
Abstract: 含有例如包含下述式(17)所示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂和光扩散剂的膜形成用组合物给予光扩散性良好的固化膜，而且含有该聚合物、交联剂和具有交联性官能团的无机微粒的膜形成用组合物能给予高温高湿耐性良好的固化膜。
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