-
公开(公告)号：CN108139506A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680057980.6
申请日：2016-07-28
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 提供具有高的耐擦伤性、光滑性、良好的可视性、以及低反射率的、特别是适合作为移动显示设备的玻璃盖片等的玻璃基板。一种玻璃基板，其在表面侧的氟涂层与基板侧的DLC层之间具有中间层，该中间层含有：使包含下式(1)所示的烷氧基硅烷及根据需要的下式(2)所示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷缩聚而得到的聚硅氧烷。R1{Si(OR2)3}P (1)(R1为被脲基取代的碳原子数1～12的烃基，R2为碳原子数1～5的烷基，p表示1或2的整数)。(R3)nSi(OR4)4-n (2)(R3为氢原子或者为任选被杂原子、卤素原子、乙烯基、氨基、环氧丙氧基、巯基、甲基丙烯酰氧基、异氰酸酯基或丙烯酰氧基取代的、碳原子数1～8的烃基，R4为碳原子数1～5的烷基，n表示0～3的整数)。
-
公开(公告)号：CN106536651B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201580040161.6
申请日：2015-05-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D183/00 , B05D7/00 , B05D7/24 , B32B9/00 , B32B15/04 , B32B15/20 , B32B18/00 , C04B41/87 , C09D5/00 , C09D7/40 , G06F3/041
Abstract: 提供能通过湿式涂布法进行成膜的氧化铝基板或铝基板用密合覆膜形成剂。一种氧化铝基板或铝基板用的密合覆膜形成剂，其含有：包含选自下述式(I)和式(II)所示的烷氧基硅烷中的至少1种的烷氧基硅烷成分的水解缩合物、以及铝盐。(化学式1)Si(OR1)4(I)、(化学式2)R2mSi(OR3)4‑m(II)，R1和R3各自独立地表示碳原子数1～5的烷基，R2表示氢原子等，m表示1～3的整数。
-
公开(公告)号：CN108139506B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201680057980.6
申请日：2016-07-28
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 提供具有高的耐擦伤性、光滑性、良好的可视性、以及低反射率的、特别是适合作为移动显示设备的玻璃盖片等的玻璃基板。一种玻璃基板，其在表面侧的氟涂层与基板侧的DLC层之间具有中间层，该中间层含有：使包含下式(1)所示的烷氧基硅烷及根据需要的下式(2)所示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷缩聚而得到的聚硅氧烷。R1{Si(OR2)3}P(1)(R1为被脲基取代的碳原子数1～12的烃基，R2为碳原子数1～5的烷基，p表示1或2的整数。)(R3)nSi(OR4)4‑n(2)(R3为氢原子或者为任选被杂原子、卤素原子、乙烯基、氨基、环氧丙氧基、巯基、甲基丙烯酰氧基、异氰酸酯基或丙烯酰氧基取代的、碳原子数1～8的烃基，R4为碳原子数1～5的烷基，n表示0～3的整数。)。
-
公开(公告)号：CN106536651A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580040161.6
申请日：2015-05-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D183/00 , B05D7/00 , B05D7/24 , B32B9/00 , B32B15/04 , B32B15/20 , B32B18/00 , C04B41/87 , C09D5/00 , C09D7/12 , G06F3/041
Abstract: 提供能通过湿式涂布法进行成膜的氧化铝基板或铝基板用密合覆膜形成剂。一种氧化铝基板或铝基板用的密合覆膜形成剂，其含有：包含选自下述式(I)和式(II)所示的烷氧基硅烷中的至少1种的烷氧基硅烷成分的水解缩合物、以及铝盐。(化学式1) Si(OR1)4 (I)；(化学式2) R2mSi(OR3)4-m (II)。R1和R3各自独立地表示碳原子数1～5的烷基，R2表示氢原子等，m表示1～3的整数。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.023 seconds)
