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发明公开
气体分离膜审中-实审

公开(公告)号：CN118119444A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202280067525.X

申请日：2022-05-19

申请人： 日东电工株式会社 , 国立大学法人广岛大学

发明人： 川岛敏行 , 能见俊祐 , 长泽宽规 , 都留稔了 , 金指正言

IPC分类号： B01D71/02 , B01D69/02 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/70

摘要： 本发明的目的在于提供气体分离性能比以往的气体分离膜优异的气体分离膜。本发明的气体分离膜在高分子膜基材上具有中间层，在上述中间层上具有分离层，上述中间层为无孔质结构，上述分离层为二氧化硅系分离层，上述二氧化硅系分离层在厚度方向上化学组成或层结构不同。