公开(公告)号：CN116034298A

公开(公告)日：2023-04-28

申请号：CN202180056676.0

申请日：2021-08-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中村恒三 ,  宫武稔 ,  翁宇峰 ,  K·林科 ,  松本伸吾

IPC: G02B6/00

Abstract: 提供了一种可附着在光导(20)上的光学偏转带(10)，包括基底(10A)和至少一个图案(11)，该至少一个图案形成有嵌入在基底(10A)中的数个周期性图案特征(12)，并且被配置为光学功能腔(12)，所述光学功能腔填充有折射率不同于围绕腔(12)的基底(10A)的材料的折射率的材料。图案(11)被配置成调整接收到的光的方向，使得入射到图案(11)的光被偏转，以经由一系列全内反射获得通过光导介质(20)的传播路径，并且，借助于所述至少一个图案(11)，光学偏转带(10)被配置成控制通过光导(20)传播的光的分布。还提供了制造带(10)的方法和相关用途。

公开(公告)号：CN116075754A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180057284.6

申请日：2021-08-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中村恒三 ,  宫武稔 ,  翁宇峰 ,  K·林科 ,  松本伸吾

IPC: G02B6/00

Abstract: 提供了一种可附着在光导(20)上的光学内耦合带(50)，其包括基板(50A)和至少一个图案(51)，该图案形成有嵌入在基板(50A)中的多个周期性图案特征(52)且配置为光学功能腔(52)，该光学功能腔填充有折射率不同于围绕腔(52)的基板(50A)的材料的折射率的材料。图案(51)配置成内耦合入射至其的光并调节内耦合光的方向，使得内耦合光经由一系列全内反射获得通过光导介质(20)的传播路径。还提供了用于制造带(50)的方法、相关用途以及包括与发光器件(22)集成的带(50)的光学设备。

公开(公告)号：CN116034229A

公开(公告)日：2023-04-28

申请号：CN202180056625.8

申请日：2021-08-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中村恒三 ,  宫武稔 ,  翁宇峰 ,  K·林科 ,  松本伸吾

IPC: F21S2/00

Abstract: 提供了一种以可附着在光导(20)上的分立物品的形式提供的光学内耦合元件(100)，包括基板(100A)和至少一个三维形成的光学表面(104)。光学表面(104)配置成内耦合入射至其的光，并调节通过在元件基板(100A)和光导介质(20)之间的界面处建立的光学接触表面(107)传输的内耦合光的方向，使得内耦合光经由一系列全内反射获得通过光导介质(20)的传播路径。光学表面(104)可以包括至少一个光学腔图案(101)。元件(100)配置成从基本平行于平面光导(20)的纵向平面的方向将光接收到所述至少一个三维形成的光学表面(104)上。还提供了用于制造光学内耦合元件(100)的方法、相关装置、光学单元(250)和用途。