背面研磨带
    1.
    发明公开
    背面研磨带 审中-公开

    公开(公告)号:CN118813163A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410472524.4

    申请日:2024-04-19

    Abstract: 提供能兼顾优异的凹凸的埋入性和切割性的背面研磨带。本发明的实施方式的背面研磨带具备基材、中间层和粘合剂层,该中间层的纳米压痕硬度(25℃)为0.001MPa~0.200MPa。该粘合剂层的纳米压痕硬度(25℃)为0.001MPa~0.080MPa,该中间层及该粘合剂层中的至少一者的厚度为50μm以上,该厚度为50μm以上的层的卸载曲线位移量为8000μm以下。

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