光学层叠体
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110073248A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201780077092.5

    申请日:2017-12-08

    Abstract: 本发明提供基材膜与硬涂层的密合性优异、并且树脂膜上的伤痕不明显而外观优异的光学层叠体。本发明的光学层叠体具备:基材层,其由树脂膜形成;硬涂层,其通过在所述树脂膜上涂布硬涂层形成用组合物而形成;及渗透层,其通过所述硬涂层形成用组合物渗透至所述树脂膜中而形成在所述基材层与所述硬涂层之间;其中,仅由所述硬涂层形成用组合物形成的成形体的折射率RHC、所述树脂膜的折射率Rsub、及硬涂层表面的折射率Rsurface的关系用式(1)表示,所述渗透层的厚度为1.2μm以上、且(所述渗透层的厚度/硬涂层的厚度)为0.7以下。0.1≤(RHC-Rsurface)/(RHC-Rsub)≤0.4 (1)。

    光学层叠体
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110073248B

    公开(公告)日:2021-08-24

    申请号:CN201780077092.5

    申请日:2017-12-08

    Abstract: 本发明提供基材膜与硬涂层的密合性优异、并且树脂膜上的伤痕不明显而外观优异的光学层叠体。本发明的光学层叠体具备:基材层,其由树脂膜形成;硬涂层,其通过在所述树脂膜上涂布硬涂层形成用组合物而形成;及渗透层,其通过所述硬涂层形成用组合物渗透至所述树脂膜中而形成在所述基材层与所述硬涂层之间;其中,仅由所述硬涂层形成用组合物形成的成形体的折射率RHC、所述树脂膜的折射率Rsub、及硬涂层表面的折射率Rsurface的关系用式(1)表示,所述渗透层的厚度为1.2μm以上、且(所述渗透层的厚度/硬涂层的厚度)为0.7以下。0.1≤(RHC-Rsurface)/(RHC-Rsub)≤0.4(1)。

    凹版涂布装置、层叠体的制造方法、光学膜的制造方法、图像显示装置的制造方法、涂布单元

    公开(公告)号:CN117654825A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311141176.4

    申请日:2023-09-06

    Abstract: 本发明的目的是提供一种能够抑制缺陷的发生的凹版涂布装置、层叠体的制造方法、光学膜的制造方法、图像显示装置的制造方法和涂布单元。本发明的凹版涂布装置的特征在于,其包含:在基材的至少一个面上涂布涂液的涂布部;和使所述涂布后的所述涂液干燥而形成树脂层的干燥部,所述涂布部包含凹版辊和涂液贮存部,所述凹版辊能够使所述涂液贮存部所贮存的所述涂液充满所述凹版辊的表面的小室内,所述涂布是通过将所述小室内的所述涂液转印到所述基材上来进行,在所述涂液贮存部中,所述涂液贮存部能够贮存的最大量的涂液的供给和排出是每150秒以内进行一次。

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